ສິ່ງທີ່ເປັນແຫວນໃນການ etching

ໃນການຜະລິດຊິບ, Photulithography ແລະ Atching ແມ່ນສອງບາດກ້າວທີ່ເຊື່ອມໂຍງຢ່າງໃກ້ຊິດ. ການຖ່າຍຮູບກ່ອນຫນ້ານີ້ໄດ້ອອກໄປ, ບ່ອນທີ່ຮູບແບບຂອງວົງຈອນໄດ້ຖືກພັດທະນາໃນ Wafer ໂດຍໃຊ້ຊ່າງຖ່າຍຮູບ. Etching ຫຼັງຈາກນັ້ນເອົາຮູບເງົາທີ່ບໍ່ໄດ້ປົກຄຸມໂດຍຊ່າງຮູບເງົາ, ສໍາເລັດການໂອນຮູບແບບຈາກຫນ້າກາກກັບບັນດາບາດແຜແລະການປະສານງານຕໍ່ຕ້ານ.

Etching ມີຄວາມກ່ຽວຂ້ອງກັບການກໍາຈັດເອກະສານທີ່ບໍ່ຈໍາເປັນໂດຍໃຊ້ວິທີການເຄມີຫຼືທາງກາຍະພາບ. ການເຄືອບປະຕິບັດຕາມ, ຕ້ານການເຄືອບ, ການເຄື່ອນໄຫວ, ແລະການພັດທະນາ, Etching ກໍາຈັດອຸປະກອນການຮູບເງົາບາງໆທີ່ບໍ່ຈໍາເປັນໄດ້ສໍາລັບພື້ນທີ່ wafer, ເຮັດໃຫ້ມີພຽງແຕ່ພື້ນທີ່ທີ່ຕ້ອງການ. ຊ່າງຖ່າຍຮູບເກີນກໍາລັງຖືກຍ້າຍອອກ. ການເຮັດຊ້ໍາອີກບາດກ້າວເຫຼົ່ານີ້ເຮັດໃຫ້ວົງຈອນປະສົມປະສານທີ່ສັບສົນ. ເນື່ອງຈາກວ່າການແກ້ໄຂກ່ຽວຂ້ອງກັບການກໍາຈັດວັດຖຸ, ມັນຖືກເອີ້ນວ່າ "ຂະບວນການ subtractive."

etching ແຫ້ງ, ເຊິ່ງເອີ້ນກັນວ່າ Plasma Etching, ແມ່ນວິທີການທີ່ໂດດເດັ່ນໃນ setching semiconductor. ເຄື່ອງຈັກ plasma ໄດ້ຖືກຈັດເປັນສອງປະເພດໂດຍອີງໃສ່ການຜະລິດ plasma ແລະການຄວບຄຸມ plasma (CCP) ຂອງ Plasma (CCP) ຂອງ Plasma (PUCEUTITULY). CCP etchers ແມ່ນໃຊ້ເປັນຕົ້ນຕໍສໍາລັບວັດສະດຸທີ່ມີອາການຄັນ, ໃນຂະນະທີ່ icp icp ແມ່ນໃຊ້ສໍາລັບຊິລິໂຄນແລະມີລັກສະນະທີ່ເປັນທີ່ເອີ້ນວ່າ etchers. ເຄື່ອງປະດັບແສງສະເລດອາຫານຊິລິໂຄນ, ຊິລິໂຄນ, ແລະຊິລິໂຄນໄປເຊຍ, ແລະວັດສະດຸຊິລິໂຄນ, ແລະອື່ນໆ (ແລະອື່ນໆ).

ໃນຂະບວນການ etching, ພວກເຮົາຈະໃຊ້ແຫວນສອງປະເພດ: ໃສ່ແຫວນແຫວນແລະແຫວນໄສ້.

ຈຸດສຸມ

ເນື່ອງຈາກຜົນກະທົບຂອງແຂບຂອງ plasma, ຄວາມຫນາແຫນ້ນແມ່ນສູງກວ່າສູນແລະຕ່ໍາຢູ່ໃນແຄມຂອງ. ແຫວນຈຸດສຸມ, ໂດຍຜ່ານຮູບຊົງສໍາຄັນຂອງມັນແລະຄຸນສົມບັດວັດສະດຸຂອງ CVD Sic, ສ້າງສະຫນາມໄຟຟ້າສະເພາະ. ຄູ່ມືພາກສະຫນາມນີ້ແລະກັກຂັງອະນຸພາກທີ່ຄິດຄ່າທໍານຽມ (ions ແລະ electrons) ໃນຊັ້ນວາງຂອງພື້ນຜິວທີ່ເປັນໄປ, ໂດຍສະເພາະຢູ່ແຄມຂອງ. ສິ່ງນີ້ເຮັດໃຫ້ຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງ plasma ໄດ້ຢູ່ແຄມຂອງ, ເຮັດໃຫ້ມັນໃກ້ຊິດກັບສິ່ງນັ້ນຢູ່ສູນ. ສິ່ງນີ້ຈະຊ່ວຍໃຫ້ຄວາມເປັນເອກະພາບຂອງ Etching ໄດ້ຢ່າງຫຼວງຫຼາຍໃນທົ່ວ wafer, ຫຼຸດຜ່ອນຄວາມເສຍຫາຍຂອງແຂບ, ແລະເພີ່ມຜົນຜະລິດ.

ແຫວນ Shield

ໂດຍປົກກະຕິແມ່ນຕັ້ງຢູ່ນອກ electrode, ຫນ້າທີ່ຕົ້ນຕໍຂອງມັນແມ່ນເພື່ອສະກັດກັ້ນ plasma overflow. ອີງຕາມໂຄງສ້າງ, ມັນກໍ່ອາດຈະເຮັດໃຫ້ເປັນສ່ວນຫນຶ່ງຂອງໄຟຟ້າ. ວັດສະດຸທົ່ວໄປປະກອບມີ CVD Sic ຫຼື Silic-crystal Silicon.

semicorex ສະເຫນີຄຸນນະພາບສູງcvd sicແລະຊິລິກາແຫວນ ETCHING ໂດຍອີງໃສ່ຄວາມຕ້ອງການຂອງລູກຄ້າ. ຖ້າທ່ານມີຄໍາຖາມໃດໆຫຼືຕ້ອງການລາຍລະອຽດເພີ່ມເຕີມ, ກະລຸນາຢ່າລັງເລທີ່ຈະຕິດຕໍ່ກັບພວກເຮົາ.

ຕິດຕໍ່ໂທລະສັບ # + 86-1367891907

Email: Sales@sememicorex.com