ການແນະນໍາສັ້ນໆກ່ຽວກັບ Dummy Wafers

ການຜະລິດ semiconductor ຂັ້ນສູງປະກອບດ້ວຍຫຼາຍຂັ້ນຕອນຂອງຂະບວນການ, ລວມທັງການຝາກຮູບເງົາບາງໆ, photolithography, etching, implantation ion, ຂັດກົນຈັກເຄມີ. ໃນລະຫວ່າງຂະບວນການນີ້, ເຖິງແມ່ນວ່າຂໍ້ບົກພ່ອງຂະຫນາດນ້ອຍໃນຂະບວນການກໍ່ອາດຈະມີຜົນກະທົບທີ່ບໍ່ດີຕໍ່ການປະຕິບັດແລະຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືຂອງຊິບ semiconductor ສຸດທ້າຍ. ດັ່ງນັ້ນ, ມັນເປັນສິ່ງທ້າທາຍທີ່ສໍາຄັນທີ່ຈະຮັກສາຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຂະບວນການແລະຄວາມສອດຄ່ອງ, ເຊັ່ນດຽວກັນກັບການດໍາເນີນການກວດສອບອຸປະກອນທີ່ມີປະສິດທິພາບ. Dummy wafers ແມ່ນເຄື່ອງມືທີ່ສໍາຄັນທີ່ຊ່ວຍຮັບມືກັບສິ່ງທ້າທາຍເຫຼົ່ານີ້.

wafers dummy ແມ່ນ wafers ທີ່ບໍ່ປະຕິບັດວົງຈອນຕົວຈິງແລະບໍ່ໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ໃນຂະບວນການຜະລິດຊິບສຸດທ້າຍ. ເຫຼົ່ານີ້wafersສາມາດເປັນຖ່ານກ້ອນໃຫມ່, wafers ການທົດສອບລະດັບຕ່ໍາຫຼື wafers reclaimed. ແຕກຕ່າງຈາກຜະລິດຕະພັນ wafers ລາຄາແພງທີ່ໃຊ້ໃນການຜະລິດວົງຈອນປະສົມປະສານ, ປົກກະຕິແລ້ວພວກມັນຖືກນໍາໃຊ້ສໍາລັບການຜະລິດທີ່ບໍ່ກ່ຽວຂ້ອງກັບການຜະລິດຕ່າງໆທີ່ຈໍາເປັນສໍາລັບການຜະລິດ semiconductor.

ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກຂອງ Dummy Wafers

1.Process Qualification & Tuning

wafers dummy ຖືກນໍາໃຊ້ທົ່ວໄປສໍາລັບການທົດສອບກ່ອນສະຖານະການເຫຼົ່ານີ້ເພື່ອຮັບປະກັນຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຂະບວນການແລະການປະຕິບັດຕາມອຸປະກອນ, ເຊັ່ນ: ກ່ອນທີ່ຈະມອບຫມາຍອຸປະກອນຂະບວນການໃຫມ່, ຫຼັງຈາກການບໍາລຸງຮັກສາຫຼືການທົດແທນອົງປະກອບຂອງອຸປະກອນທີ່ມີຢູ່ແລ້ວ, ແລະໃນໄລຍະການພັດທະນາສູດຂະບວນການໃຫມ່. ການກວດສອບປະສິດທິພາບອຸປະກອນແລະການປັບຕົວກໍານົດການຂະບວນການສາມາດສໍາເລັດໄດ້ຢ່າງສໍາເລັດຜົນໂດຍຜ່ານການວິເຄາະຜົນການປຸງແຕ່ງໃນ dummy wafers, ເຊິ່ງໄດ້ປະສິດທິພາບການຫຼຸດຜ່ອນການສູນເສຍຂອງ wafers ຜະລິດຕະພັນແລະຫຼຸດຜ່ອນຄ່າໃຊ້ຈ່າຍໃນການຜະລິດວິສາຫະກິດ.

2.ເຄື່ອງປັບອາກາດ & ອຸ່ນເຄື່ອງ

ສະພາບແວດລ້ອມຫ້ອງຂອງອຸປະກອນຂະບວນການ semiconductor ຈໍານວນຫຼາຍ (ຕົວຢ່າງເຊັ່ນ, ອຸປະກອນການປ່ອຍອາຍພິດທາງເຄມີ (CVD), ອຸປະກອນການປ່ອຍອາຍພິດທາງກາຍະພາບ (PVD), ແລະເຄື່ອງຈັກ etching) ມີຜົນກະທົບຢ່າງຫຼວງຫຼາຍຕໍ່ຜົນໄດ້ຮັບການປຸງແຕ່ງ. ສໍາລັບຕົວຢ່າງ, ສະຖານະພາບການເຄືອບແລະການແຜ່ກະຈາຍອຸນຫະພູມຢູ່ໃນຝາຊັ້ນໃນຂອງສະພາການຈໍາເປັນຕ້ອງໄດ້ບັນລຸສະຖານະທີ່ຫມັ້ນຄົງ. wafers dummy ມັກຈະຖືກນໍາໃຊ້ເພື່ອປັບສະພາບຫ້ອງຂະບວນການແລະສະຖຽນລະພາບພາຍໃນ (e.g., ອຸນຫະພູມ, ບັນຍາກາດເຄມີ, ແລະສະຖານະຫນ້າດິນ) ຂອງຫ້ອງ, ເຊິ່ງປະສິດທິພາບປ້ອງກັນການ deviations ຂະບວນການຫຼືຂໍ້ບົກພ່ອງໃນ batch ທໍາອິດຂອງ wafers ຜະລິດຕະພັນທີ່ເກີດຈາກອຸປະກອນບໍ່ເຮັດວຽກຢູ່ໃນສະພາບທີ່ດີທີ່ສຸດຂອງຕົນ.

3.Particle Monitoring & Contamination Control

ການຜະລິດ semiconductor ມີຄວາມຕ້ອງການຄວາມສະອາດສູງທີ່ສຸດ; ເຖິງແມ່ນວ່າການປົນເປື້ອນອະນຸພາກຂະຫນາດນ້ອຍສາມາດນໍາໄປສູ່ຄວາມລົ້ມເຫຼວຂອງຊິບ. ໂດຍຜ່ານການກວດສອບອະນຸພາກທີ່ຕິດກັບຫນ້າດິນຂອງ wafers dummy ປ້ອນເຂົ້າໄປໃນອຸປະກອນ, ຄວາມສະອາດຂອງອຸປະກອນສາມາດໄດ້ຮັບການປະເມີນ. ດັ່ງນັ້ນ, ຜະລິດຕະພັນ wafers ສາມາດປ້ອງກັນໄດ້ຢ່າງສໍາເລັດຜົນຈາກການປົນເປື້ອນໂດຍການກໍານົດແຫຼ່ງຂອງການປົນເປື້ອນທັນທີທັນໃດແລະວາງຂັ້ນຕອນການທໍາຄວາມສະອາດຫຼືບໍາລຸງຮັກສາໃນສະຖານທີ່.

4.Slot ການຕື່ມສໍາລັບຄວາມສອດຄ່ອງ batch

ເພື່ອບັນລຸການໄຫຼຂອງອາຍແກັສ, ການແຜ່ກະຈາຍຂອງອຸນຫະພູມ, ແລະຄວາມເຂັ້ມຂຸ້ນຂອງ reactant ຢູ່ໃນຫ້ອງຂະບວນການ, ການປະຕິບັດການໂຫຼດເຕັມແມ່ນການປະຕິບັດທົ່ວໄປໃນອຸປະກອນການປຸງແຕ່ງ batch ເຊັ່ນ furnaces ແຜ່ກະຈາຍ, furnaces ຜຸພັງ, ຫຼືຖັງທໍາຄວາມສະອາດປຽກຊຸ່ມ. wafers dummy ຖືກນໍາໃຊ້ເພື່ອຕື່ມຂໍ້ມູນໃສ່ຊ່ອງຫວ່າງໃນເຮືອ wafer ທີ່ບໍ່ມີຈໍານວນພຽງພໍຂອງ wafers ຜະລິດຕະພັນ, ເຊິ່ງສາມາດຫຼຸດຜ່ອນຜົນກະທົບຂອງຂອບແລະຮັບປະກັນເງື່ອນໄຂການປຸງແຕ່ງທີ່ສອດຄ່ອງສໍາລັບ wafers ຜະລິດຕະພັນທັງຫມົດ, ໂດຍສະເພາະສໍາລັບຜູ້ທີ່ຕັ້ງຢູ່ແຄມຂອງເຮືອ wafer ໄດ້.

5.Stabilization of Chemical Mechanical Polishing (CMP) ຂະບວນການ

wafers dummy ຍັງສາມາດຖືກນໍາໃຊ້ໃນຂັ້ນຕອນກ່ອນການປິ່ນປົວຂອງຂະບວນການ CMP ເພື່ອຮັກສາຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຂະບວນການ. ການທົດສອບກ່ອນການແລ່ນດ້ວຍ dummy wafers optimizes roughness ແລະ porosity ຂອງ pad ຂັດ, ຫຼຸດຜ່ອນຄວາມບໍ່ແນ່ນອນຂອງຂະບວນການໃນໄລຍະການສະຖຽນລະພາບການເລີ່ມຕົ້ນຂຶ້ນຫຼືໄລຍະການປ່ຽນແປງກ່ອນທີ່ຈະປິດ, ແລະຫຼຸດຜ່ອນການຂູດ wafer ແລະຂໍ້ບົກພ່ອງທີ່ເກີດຈາກການສະຫນອງ slurry ຜິດປົກກະຕິແລະການສວມໃສ່ diaphragm ຫົວ.

Semicorex ສະຫນອງຄ່າໃຊ້ຈ່າຍທີ່ມີປະສິດທິພາບSiC dummy wafers. ຖ້າທ່ານມີຄໍາຖາມໃດໆຫຼືຕ້ອງການລາຍລະອຽດເພີ່ມເຕີມ, ກະລຸນາຢ່າລັງເລທີ່ຈະຕິດຕໍ່ກັບພວກເຮົາ.

ເບີໂທຕິດຕໍ່ #+86-13567891907

ອີເມວ: sales@semicorex.com