> ຜະລິດຕະພັນ

ຜະລິດຕະພັນ

ຜະລິດຕະພັນໃຫມ່

View as

ຫົວອາບນໍ້າ CVD SiC

ຫົວອາບນ້ໍາ Semicorex CVD SiC ເປັນອົງປະກອບຫຼັກທີ່ໃຊ້ໃນອຸປະກອນການຂຸດເຈາະ semiconductor, ຮັບໃຊ້ເປັນທັງ electrode ແລະທໍ່ສໍາລັບ etching gases. ເລືອກ Semicorex ສໍາລັບການຄວບຄຸມວັດສະດຸທີ່ເຫນືອກວ່າ, ເຕັກໂນໂລຢີການປຸງແຕ່ງທີ່ກ້າວຫນ້າ, ແລະປະສິດທິພາບທີ່ເຊື່ອຖືໄດ້, ຍາວນານໃນຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ semiconductor ທີ່ຕ້ອງການ.*

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

ຫົວອາບນ້ໍາໂລຫະ

ຫົວອາບນ້ໍາໂລຫະ, ທີ່ຮູ້ຈັກເປັນແຜ່ນກະຈາຍອາຍແກັສຫຼືຫົວອາບອາຍແກັສ, ເປັນອົງປະກອບທີ່ສໍາຄັນຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນຂະບວນການຜະລິດ semiconductor. ຫນ້າທີ່ຕົ້ນຕໍຂອງມັນແມ່ນການແຈກຢາຍອາຍແກັສເຂົ້າໄປໃນຫ້ອງຕິກິຣິຍາ, ຮັບປະກັນວ່າວັດສະດຸ semiconductor ເຂົ້າໄປໃນການຕິດຕໍ່ທີ່ເປັນເອກະພາບກັບຂະບວນການ. ອາຍແກັສ.**

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

SiC Ceramic Seal Part

Semicorex SiC Ceramic Seal Part ຢືນເປັນພະຍານເຖິງຄວາມກ້າວຫນ້າທາງດ້ານວິທະຍາສາດວັດສະດຸແລະວິສະວະກໍາທີ່ກ້າວຫນ້າ, ຖືກອອກແບບມາເພື່ອຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການທີ່ແນ່ນອນຂອງການນໍາໃຊ້ການຜະນຶກກົນຈັກທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງໃນທົ່ວອຸດສາຫະກໍາຕ່າງໆ.**

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

ເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ MOCVD

ເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ MOCVD ໂດຍ Semicorex ເປັນອົງປະກອບທີ່ກ້າວຫນ້າທາງດ້ານວິສະວະກໍາຢ່າງພິຖີພິຖັນແລະມີຄວາມໄດ້ປຽບຫຼາຍຢ່າງ, ລວມທັງຄວາມບໍລິສຸດທາງເຄມີພິເສດ, ປະສິດທິພາບຄວາມຮ້ອນ, ການນໍາໄຟຟ້າ, ການປ່ອຍອາຍພິດສູງ, ການຕໍ່ຕ້ານ corrosion, inoxidizability, ແລະຄວາມເຂັ້ມແຂງກົນຈັກ.**

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

ເຄື່ອງຮັບ MOCVD 3x2''

Semicorex MOCVD 3x2'' Susceptor ພັດທະນາໂດຍ Semicorex ສະແດງໃຫ້ເຫັນເຖິງຈຸດສູງສຸດຂອງນະວັດຕະກໍາແລະຄວາມດີເລີດດ້ານວິສະວະກໍາ, ປັບແຕ່ງໂດຍສະເພາະເພື່ອຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການທີ່ສັບສົນຂອງຂະບວນການຜະລິດ semiconductor ທີ່ທັນສະໄຫມ.**

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

TaC Coating Wafer Susceptor

Semicorex TaC Coating Wafer Susceptor ເປັນຖາດ graphite ທີ່ເຄືອບດ້ວຍ tantalum carbide, ໃຊ້ໃນການຂະຫຍາຍຕົວຂອງ silicon carbide epitaxial ເພື່ອເພີ່ມຄຸນນະພາບແລະການປະຕິບັດຂອງ wafer. ເລືອກ Semicorex ສໍາລັບເທກໂນໂລຍີການເຄືອບທີ່ກ້າວຫນ້າແລະການແກ້ໄຂທົນທານທີ່ຮັບປະກັນຜົນໄດ້ຮັບ SiC epitaxy ທີ່ດີກວ່າແລະອາຍຸການຍືດເຍື້ອຂອງ susceptor.*

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

<...53 54 55 56 57...123 >