ເປົ້າໝາຍ Monocrystalline Silicon Planar

Monocrystalline silicon planar target ຈາກ Semicorex ເປັນອົງປະກອບທີ່ສໍາຄັນໃນອຸດສາຫະກໍາການຜະລິດ semiconductor ທີ່ທັນສະໄຫມ. ຜະລິດໂດຍວັດສະດຸຊິລິໂຄນ monocrystalline ຄຸນນະພາບສູງ, ມັນມີໂຄງສ້າງຜລຶກທີ່ມີຄໍາສັ່ງສູງແລະຄວາມບໍລິສຸດທີ່ໂດດເດັ່ນ. ຄຸນສົມບັດເຫຼົ່ານີ້ເຮັດໃຫ້ມັນເປັນການແກ້ໄຂທີ່ເຫມາະສົມສໍາລັບການຜະລິດຮູບເງົາ semiconductor ທີ່ເຊື່ອຖືໄດ້, ປະສິດທິພາບສູງແລະຮູບເງົາ optical.

ສົ່ງສອບຖາມ

ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ຊິລິຄອນ monocrystallineເປົ້າໝາຍແຜນຜັງແມ່ນຖືກປຸງແຕ່ງໂດຍອຸປະກອນຕັດທີ່ມີຄວາມແມ່ນຍຳສູງຈາກແຜ່ນຊິລິຄອນ monocrystalline ທີ່ສ້າງຂຶ້ນໂດຍວິທີການ Czochralski. ເພື່ອຕອບສະຫນອງຄວາມຫຼາກຫຼາຍຂອງຄວາມຕ້ອງການຂອງລູກຄ້າ, monocrystalline silicon planar target ສາມາດຖືກຕັດອອກເປັນຮູບຮ່າງທີ່ຕ້ອງການສໍາລັບລູກຄ້າທີ່ຫນ້າຮັກຂອງທ່ານ. ເທກໂນໂລຍີການຂັດແລະການຂັດທີ່ຊັດເຈນຮັບປະກັນຄວາມຮາບພຽງດ້ານທີ່ດີເລີດຂອງວັດສະດຸເປົ້າຫມາຍ, ສະຫນອງການຮັບປະກັນທີ່ເຂັ້ມແຂງສໍາລັບການຝາກຂອງຮູບເງົາບາງໆ.

ຊິລິຄອນ monocrystalline planar target ແມ່ນຖືກຈັດໃສ່ພາຍໃນຫ້ອງຕິກິຣິຍາສູນຍາກາດຮ່ວມກັບ substrate ທີ່ຈະເຄືອບໃນລະຫວ່າງຂະບວນການ deposition ຮູບເງົາ. ເມື່ອເປົ້າໝາຍແຜນຜັງຊິລິຄອນ monocrystalline ໄດ້ຖືກລະເບີດໂດຍ ion ທີ່ມີພະລັງງານສູງ, ອະຕອມຂອງຊິລິໂຄນຢູ່ດ້ານຂອງມັນແມ່ນ sputtered ອອກ. ຈາກນັ້ນອະຕອມຂອງຊິລິໂຄນທີ່ຖືກ sputtered ເຫຼົ່ານີ້ເຄື່ອນຍ້າຍແລະຝາກໃສ່ຫນ້າດິນຂອງ substrate, ໃນທີ່ສຸດກໍ່ເປັນແຜ່ນບາງ silicon.

ຊິລິຄອນ monocrystalline planar ເປົ້າຫມາຍເປັນແຫຼ່ງອຸປະກອນການສໍາລັບການຊຶມເຊື້ອຮູບເງົາບາງ. ອະຕອມຂອງຊິລິໂຄນທັງໝົດທີ່ຝາກໄວ້ໃນພື້ນຜິວ wafer ມີຕົ້ນກຳເນີດມາຈາກເປົ້າໝາຍແຜນຜັງຂອງຊິລິຄອນ monocrystalline. ດັ່ງນັ້ນ, ຄຸນນະພາບຂອງ monocrystalline silicon planar ເປົ້າຫມາຍໂດຍກົງກໍານົດຄວາມບໍລິສຸດ, ຄວາມສອດຄ່ອງແລະຄຸນສົມບັດທີ່ສໍາຄັນອື່ນໆຂອງຮູບເງົາບາງໆຝາກໄວ້.

ລັກສະນະຄວາມບໍລິສຸດທີ່ດີເລີດເຮັດໃຫ້ເປົ້າຫມາຍ planar ຊິລິຄອນ monocrystalline ມີຄວາມສາມາດທີ່ຈະປ້ອງກັນບໍ່ໃຫ້ impurities ປົນເປື້ອນຮູບເງົາບາງ. ນີ້ຢ່າງຫຼວງຫຼາຍປັບປຸງປະສິດທິພາບໄຟຟ້າຂອງອຸປະກອນ semiconductor. ການປັບປຸງຄວາມສອດຄ່ອງແລະການຍຶດຕິດຂອງຮູບເງົາບາງໆໄດ້ຮັບຜົນປະໂຫຍດຈາກໂຄງສ້າງຜລຶກທີ່ມີຄໍາສັ່ງສູງ, ເຊິ່ງເຮັດໃຫ້ອະນຸພາກ sputtering ເຄື່ອນຍ້າຍແລະຝາກຢູ່ເທິງຫນ້າຂອງ wafer ໄດ້ເປັນປົກກະຕິ. ການອອກແບບໂຄງສ້າງແບບ planar ແມ່ນເຫມາະສົມສໍາລັບພື້ນທີ່ຂະຫນາດໃຫຍ່ແລະຄວາມຕ້ອງການ sputtering ຄວາມໄວສູງ, ແລະສາມາດໃຊ້ໄດ້ກັບສະຖານະການການຜະລິດຂະຫນາດໃຫຍ່ເຊັ່ນ wafers semiconductor ແລະກະດານສະແດງ.