Wafers ແກ້ວແມ່ນຫຍັງ?

ດ້ວຍການພັດທະນາຂອງ semiconductor ແລະເຕັກໂນໂລຊີ optical,wafers ແກ້ວເປັນປະເພດໃຫມ່ຂອງຜະລິດຕະພັນແກ້ວ, ຄ່ອຍໆກາຍເປັນສ່ວນເສີມຂອງ wafers ຊິລິໂຄນ, ສະແດງໃຫ້ເຫັນທ່າແຮງທີ່ຍິ່ງໃຫຍ່ໃນພາກສະຫນາມຂອງເຕັກໂນໂລຊີສູງ. ຈອກ wafers ແມ່ນຫຍັງ? ແວ່ນແກ້ວແມ່ນເປັນຕ່ອນບາງໆເປັນວົງມົນທີ່ມີປະສິດຕິພາບສູງ, ໂດຍທົ່ວໄປແລ້ວເຮັດດ້ວຍແກ້ວ quartz, ແກ້ວທີ່ບໍ່ມີທາດດ່າງ, ຫຼືແກ້ວຊິລິຄອນ. ດ້ວຍຄຸນສົມບັດທາງກາຍະພາບ ແລະທາງເຄມີທີ່ດີເລີດ, ພວກມັນມີບົດບາດທີ່ບໍ່ສາມາດທົດແທນໄດ້ໃນຂະແໜງການຜະລິດທີ່ທັນສະໄໝ, ເຊັ່ນ: ການຜະລິດເຊມິຄອນດັກເຕີ, ແວ່ນຕາ, MEMS, ເອເລັກໂຕຣນິກບໍລິໂພກ, ຊີວະວິທະຍາ ແລະການຄົ້ນຄວ້າຫ້ອງທົດລອງ.

ວັດສະດຸຕົ້ນຕໍສໍາລັບ wafers ແກ້ວ

1.Far-ultraviolet quartz ແກ້ວ

ໄກ-ultravioletquartzແກ້ວແມ່ນຜະລິດໂດຍຂະບວນການປ່ອຍອາຍພິດທາງເຄມີ, ບ່ອນທີ່ຊິລິໂຄນ tetrachloride ອາຍແກັສຜ່ານປະຕິກິລິຢາໄລຍະອາຍແກັສໃນແປວໄຟ oxyhydrogen ເພື່ອສ້າງ amorphous silicon dioxide, ເຊິ່ງຖືກຝາກໄວ້ໃນຊັ້ນໃຕ້ດິນ quartz ສໍາລັບການຂະຫຍາຍຕົວແລະການສ້າງຕັ້ງເທື່ອລະກ້າວ. ວັດສະດຸນີ້ປະກອບດ້ວຍກຸ່ມ hydroxyl ຈໍານວນຫຼວງຫຼາຍ (950-1400 ppm), ມີຈໍານວນຂະຫນາດນ້ອຍທັງຫມົດຂອງ impurities ໂລຫະຫນ້ອຍກ່ວາ 0.2 ppm. ຂໍຂອບໃຈກັບຄຸນສົມບັດທີ່ດີເລີດຂອງມັນເຊັ່ນ: ຄຸນສົມບັດຕ້ານລັງສີ, ຄວາມສອດຄ່ອງຂອງ optical, ແລະການສົ່ງຜ່ານ ultraviolet ສູງ (ໂດຍສະເພາະໃນພາກພື້ນ ultraviolet ໄກ), ແກ້ວ ultraviolet quartz ໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນການນໍາໃຊ້ໃນພາກສະຫນາມ optics ໄກ ultraviolet.

ຢ່າງໃດກໍຕາມ, ການນໍາໃຊ້ຂະຫນາດໃຫຍ່ຂອງແກ້ວ quartz ໄກ ultraviolet ໄດ້ຖືກຈໍາກັດໃນຂອບເຂດຈໍານວນຫນຶ່ງໂດຍປັດໃຈເຊັ່ນ: ຄວາມບົກພ່ອງຂອງເສັ້ນດ່າງທີ່ງ່າຍຕໍ່ການຜະລິດໃນລະຫວ່າງຂະບວນການກະກຽມ, ຄວາມຫຍຸ້ງຍາກໃນການ molding ຜະລິດຕະພັນຂະຫນາດໃຫຍ່ແລະຮູບຮ່າງສະລັບສັບຊ້ອນ, ແລະຄ່າໃຊ້ຈ່າຍໃນການຜະລິດຂ້ອນຂ້າງສູງ.

2.Ultraviolet optical quartz ແກ້ວ:

ແກ້ວ quartz optical ultraviolet ຜ່ານຂະບວນການ fusion flame ແມ່ນຜະລິດໂດຍການລະລາຍໄປເຊຍກັນທໍາມະຊາດດ້ວຍ flame ອົກຊີໄຮໂດເຈນ, ຕິດຕາມມາດ້ວຍການຕົກຄ້າງຢູ່ດ້ານຂອງເປົ້າຫມາຍແກ້ວ silica fused. ແກ້ວ quartz optical ultraviolet ທີ່ມີເນື້ອໃນ hydroxyl ຂອງ 150-400 ppm ສະເຫນີຂໍ້ໄດ້ປຽບພິເສດເຊັ່ນ: ການຖ່າຍທອດ ultraviolet ສູງ, ຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງສານເຄມີທີ່ເຂັ້ມແຂງ, ຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຄວາມຮ້ອນດີ, ແລະຄວາມເຂັ້ມແຂງກົນຈັກສູງ. ໄດ້ຮັບຜົນປະໂຫຍດຈາກຂະບວນການຜະລິດທີ່ໃຫຍ່ເຕັມທີ່ແລະຄ່າໃຊ້ຈ່າຍທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງ, ແກ້ວ quartz optical ultraviolet ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນອຸດສາຫະກໍາເອເລັກໂຕຣນິກແລະ semiconductor.

ແນວໃດກໍ່ຕາມ, ແກ້ວ quartz optical ultraviolet ມີຄວາມເປັນເອກະພາບຂອງ optical ທີ່ບໍ່ດີແລະອາດມີຂໍ້ບົກພ່ອງຂອງກ້ອງຈຸລະທັດເຊັ່ນ: striae ແລະ micro-bubbles, ເຊິ່ງສາມາດສົ່ງຜົນກະທົບຕໍ່ຄຸນນະພາບການຖ່າຍຮູບ optical ແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງການສົ່ງ laser.

3.ແກ້ວອິນຟາເຣດ quartz optical:

ແກ້ວ quartz optical ອິນຟາເລດແມ່ນຜະລິດໂດຍການລະລາຍຜົງໄປເຊຍກັນໂດຍໃຊ້ຂະບວນການ electrofusion ສູນຍາກາດ. ວັດສະດຸນີ້ມີເນື້ອໃນ hydroxyl ຕ່ໍາ (<5ppm), ເຊິ່ງເຮັດໃຫ້ການສົ່ງຜ່ານ infrared ດີກວ່າ. ຂໍຂອບໃຈກັບການສົ່ງຜ່ານອິນຟາເລດຊັ້ນສູງ, ຄຸນສົມບັດທາງເຄມີທີ່ດີ, ແລະຄວາມເຂັ້ມແຂງກົນຈັກສູງແລະເຕັກໂນໂລຊີ fabrication ແກ່, ແກ້ວ infrared optical quartz ໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ optics infrared.

ແນວໃດກໍ່ຕາມ, ແກ້ວ quartz optical infrared ມີ impurities ໂລຫະສູງແລະສະຫນອງຂອບເຂດຄວາມເສຍຫາຍ laser ຂ້ອນຂ້າງຕ່ໍາ, ເຮັດໃຫ້ມັນບໍ່ເຫມາະສົມສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ laser ຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງພະລັງງານສູງແລະສະຖານະການຮຽກຮ້ອງໃຫ້ມີການສົ່ງແສງ ultraviolet ໄກສູງທີ່ສຸດ.