> ຜະລິດຕະພັນ

ຜະລິດຕະພັນ

ຜະລິດຕະພັນໃຫມ່

View as

ວົງແຫວນຊັ້ນເທິງທີ່ເຄືອບ CVD SiC

ແຫວນເທິງພື້ນດິນທີ່ເຄືອບ Semicorex CVD SiC ແມ່ນອົງປະກອບຂອງຮູບວົງແຫວນທີ່ຈໍາເປັນທີ່ຖືກອອກແບບໂດຍສະເພາະສໍາລັບອຸປະກອນ plasma etching ທີ່ຊັບຊ້ອນ. ໃນຖານະທີ່ເປັນຜູ້ຜະລິດຊັ້ນນໍາໃນອຸດສາຫະກໍາຂອງອົງປະກອບ semiconductor, Semicorex ສຸມໃສ່ການສະຫນອງແຫວນຊັ້ນເທິງ CVD SiC ທີ່ມີຄຸນະພາບສູງ, ທົນທານແລະສະອາດທີ່ສຸດເພື່ອຊ່ວຍໃຫ້ລູກຄ້າທີ່ມີຄຸນຄ່າຂອງພວກເຮົາປັບປຸງປະສິດທິພາບການດໍາເນີນງານແລະຄຸນນະພາບຜະລິດຕະພັນໂດຍລວມ.

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

ແຫວນແຂງ CVD SiC

ແຫວນ Semicorex ແຂງ CVD SiC ແມ່ນອົງປະກອບຮູບວົງແຫວນທີ່ມີປະສິດຕິພາບສູງ, ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນໃຊ້ຢູ່ໃນຫ້ອງຕິກິຣິຍາຂອງອຸປະກອນ plasma etching ໃນອຸດສາຫະກໍາ semiconductor ກ້າວຫນ້າ. ແຫວນ Semicorex ແຂງ CVD SiC ຜ່ານການຄັດເລືອກວັດສະດຸຢ່າງເຂັ້ມງວດແລະການຄວບຄຸມຄຸນນະພາບ, ສະເຫນີຄວາມບໍລິສຸດຂອງວັດສະດຸທີ່ບໍ່ມີການປຽບທຽບ, ການຕໍ່ຕ້ານການກັດກ່ອນຂອງ plasma ພິເສດແລະການປະຕິບັດການປະຕິບັດທີ່ສອດຄ່ອງ.

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

ທໍ່ເຕົາອົບທີ່ເຄືອບ CVD SiC

ທໍ່ furnace Semicorex CVD SiC ແມ່ນອົງປະກອບທໍ່ຊັ້ນສູງທີ່ຜະລິດໂດຍສະເພາະສໍາລັບການປຸງແຕ່ງ semiconductor ທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ, ເຊັ່ນ: ການຜຸພັງ, ການແຜ່ກະຈາຍ, ແລະການຫມູນວຽນຂອງ wafers semiconductor. ການໃຊ້ເຕັກໂນໂລຢີການປຸງແຕ່ງທີ່ກ້າວຫນ້າແລະປະສົບການການຜະລິດທີ່ແກ່ຍາວ, Semicorex ມຸ່ງຫມັ້ນທີ່ຈະສະຫນອງທໍ່ furnace CVD SiC ທີ່ມີເຄື່ອງຈັກທີ່ມີຄວາມແມ່ນຍໍາທີ່ມີຄຸນະພາບເປັນຜູ້ນໍາຕະຫຼາດສໍາລັບລູກຄ້າທີ່ມີຄຸນຄ່າຂອງພວກເຮົາ.

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

ຫົວຫນ້າຫ້ອງນ້ໍາ CVD SIC

ຫົວຫນ້າອາບນ້ໍາ Semicorex CVD ແມ່ນຄວາມບໍລິສຸດ, ສ່ວນປະກອບທີ່ອອກແບບທີ່ມີຄວາມຫມາຍທີ່ຖືກອອກແບບມາສໍາລັບລະບົບ CCP ແລະ ICP ECP ໃນການຜະລິດ semiconductor. ການເລືອກ semicorex ຫມາຍຄວາມວ່າໄດ້ຮັບການແກ້ໄຂວິທີແກ້ໄຂທີ່ຫນ້າເຊື່ອຖືກັບຄວາມບໍລິສຸດວັດສະດຸທີ່ດີກວ່າ, ຄວາມທົນທານຂອງເຄື່ອງຈັກ, ແລະຄວາມທົນທານສໍາລັບຂະບວນການ plasma ທີ່ຕ້ອງການທີ່ສຸດ. *

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

ວົງແຫວນໂຟກັສ CVD SiC

ໂດຍຜ່ານຂະບວນການປ່ອຍອາຍພິດທາງເຄມີ (CVD), Semicorex CVD SiC Focus Ring ໄດ້ຖືກຝາກໄວ້ຢ່າງລະມັດລະວັງແລະຖືກປຸງແຕ່ງດ້ວຍກົນຈັກເພື່ອບັນລຸຜະລິດຕະພັນສຸດທ້າຍ. ດ້ວຍຄຸນສົມບັດວັດສະດຸທີ່ເໜືອກວ່າຂອງມັນ, ມັນເປັນສິ່ງທີ່ຂາດບໍ່ໄດ້ໃນສະພາບແວດລ້ອມທີ່ຕ້ອງການຂອງການຜະລິດ semiconductor ທີ່ທັນສະໄຫມ.**

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

ຫົວອາບນໍ້າ CVD SiC

ຫົວອາບນ້ໍາ Semicorex CVD SiC ເປັນອົງປະກອບຫຼັກທີ່ໃຊ້ໃນອຸປະກອນການຂຸດເຈາະ semiconductor, ຮັບໃຊ້ເປັນທັງ electrode ແລະທໍ່ສໍາລັບ etching gases. ເລືອກ Semicorex ສໍາລັບການຄວບຄຸມວັດສະດຸທີ່ເຫນືອກວ່າ, ເຕັກໂນໂລຢີການປຸງແຕ່ງທີ່ກ້າວຫນ້າ, ແລະປະສິດທິພາບທີ່ເຊື່ອຖືໄດ້, ຍາວນານໃນຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ semiconductor ທີ່ຕ້ອງການ.*

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

<1 2 3 >