Si Epitaxy

Si epitaxy ຊ່ວຍໃຫ້ວິສະວະກໍາຄຸນສົມບັດຂອງຊັ້ນສະເພາະ, ເຊັ່ນ: ຄວາມຫນາ, ຄວາມເຂັ້ມຂົ້ນຂອງຝຸ່ນ, ແລະອົງປະກອບ. ໂດຍການນໍາສະເຫນີປະລິມານການຄວບຄຸມຂອງ impurities, ຮູ້ຈັກເປັນ dopants, ເຂົ້າໄປໃນຊັ້ນ epitaxial, ລັກສະນະໄຟຟ້າຂອງອຸປະກອນຜົນໄດ້ຮັບສາມາດໄດ້ຮັບການປັບແຕ່ງທີ່ຊັດເຈນ. ນີ້ເຮັດໃຫ້ການສ້າງພາກພື້ນທີ່ແຕກຕ່າງກັນທີ່ມີປະເພດ conductivity ທີ່ແຕກຕ່າງກັນ (n-type ຫຼື p-type) ແລະຄວາມເຂັ້ມຂຸ້ນຂອງຜູ້ໃຫ້ບໍລິການທີ່ຕ້ອງການ, ອະນຸຍາດໃຫ້ປະສົມປະສານຂອງວົງຈອນເອເລັກໂຕຣນິກທີ່ສັບສົນ.

Si epitaxy ເປັນຂະບວນການພື້ນຖານໃນການຜະລິດອຸປະກອນ semiconductor ກ້າວຫນ້າ, ລວມທັງ microprocessors, ຊິບຫນ່ວຍຄວາມຈໍາ, ເຊັນເຊີຮູບພາບ, ແລະຈຸລັງແສງຕາເວັນ. ມັນມີບົດບາດສໍາຄັນໃນການປັບປຸງປະສິດທິພາບຂອງອຸປະກອນ, ການຂະຫຍາຍຂະຫນາດນ້ອຍ, ແລະການເຮັດວຽກ. ຄວາມສາມາດໃນການຝາກຊັ້ນ epitaxial ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງດ້ວຍການຄວບຄຸມທີ່ຊັດເຈນກ່ຽວກັບຄຸນສົມບັດຂອງວັດສະດຸປະກອບສ່ວນກັບຄວາມກ້າວຫນ້າຢ່າງຕໍ່ເນື່ອງແລະນະວັດກໍາໃນອຸດສາຫະກໍາ semiconductor.