Silicon Etch Plate ສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ PSS Etching

ແຜ່ນ silicon Etch ຂອງ Semicorex ສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ PSS Etching ແມ່ນຜູ້ໃຫ້ບໍລິການ graphite ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງ, ບໍລິສຸດທີ່ສຸດທີ່ຖືກອອກແບບໂດຍສະເພາະສໍາລັບການເຕີບໃຫຍ່ຂອງ epitaxial ແລະຂະບວນການຈັດການ wafer. ຜູ້ໃຫ້ບໍລິການຂອງພວກເຮົາສາມາດທົນຕໍ່ສະພາບແວດລ້ອມທີ່ຮຸນແຮງ, ອຸນຫະພູມສູງ, ແລະການທໍາຄວາມສະອາດສານເຄມີທີ່ຮຸນແຮງ. ແຜ່ນ silicon etching ສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ PSS etching ມີຄຸນສົມບັດການແຜ່ກະຈາຍຄວາມຮ້ອນທີ່ດີເລີດ, ການນໍາຄວາມຮ້ອນສູງ, ແລະເປັນຄ່າໃຊ້ຈ່າຍປະສິດທິພາບ. ຜະລິດຕະພັນຂອງພວກເຮົາຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນຫຼາຍຕະຫຼາດເອີຣົບແລະອາເມລິກາ, ແລະພວກເຮົາຫວັງວ່າຈະກາຍເປັນຄູ່ຮ່ວມງານໄລຍະຍາວຂອງທ່ານໃນປະເທດຈີນ.

ສົ່ງສອບຖາມ

ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ແຜ່ນ Silicon Etch Plate ຂອງ Semicorex ສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ PSS Etching ແມ່ນວິສະວະກໍາສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກອຸປະກອນ epitaxy ທີ່ຕ້ອງການຫຼາຍທີ່ສຸດ. ຜູ້ໃຫ້ບໍລິການ graphite ທີ່ບໍລິສຸດຂອງພວກເຮົາສາມາດທົນຕໍ່ສະພາບແວດລ້ອມທີ່ຮຸນແຮງ, ອຸນຫະພູມສູງ, ແລະການທໍາຄວາມສະອາດສານເຄມີທີ່ຮຸນແຮງ. ຜູ້ໃຫ້ບໍລິການທີ່ເຄືອບ SiC ມີຄຸນສົມບັດກະຈາຍຄວາມຮ້ອນທີ່ດີເລີດ, ການນໍາຄວາມຮ້ອນສູງ, ແລະປະຫຍັດຄ່າໃຊ້ຈ່າຍ.

ພາລາມິເຕີຂອງ Silicon Etch Plate ສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ PSS Etching

ຂໍ້ມູນຈໍາເພາະຕົ້ນຕໍຂອງການເຄືອບ CVD-SIC
ຄຸນສົມບັດ SiC-CVD
ໂຄງປະກອບການໄປເຊຍກັນ	ໄລຍະ FCC β
ຄວາມຫນາແຫນ້ນ	g/ຊມ ³	3.21
ຄວາມແຂງ	ຄວາມແຂງຂອງ Vickers	2500
ຂະໜາດເມັດພືດ	ມມ	2~10
ຄວາມບໍລິສຸດທາງເຄມີ	%	99.99995
ຄວາມອາດສາມາດຄວາມຮ້ອນ	J kg-1 K-1	640
ອຸນຫະພູມ sublimation	℃	2700
ຄວາມເຂັ້ມແຂງ Felexural	MPa (RT 4 ຈຸດ)	415
ໂມດູລຂອງໜຸ່ມ	Gpa (4pt ງໍ, 1300℃)	430
ການຂະຫຍາຍຄວາມຮ້ອນ (C.T.E)	10-6K-1	4.5
ການນໍາຄວາມຮ້ອນ	(W/mK)	300