ຕີນຊິລິໂຄນ

1. Semicorex Silicon Pedestal ສະຖຽນລະພາບສະພາບແວດລ້ອມການປຸງແຕ່ງສໍາລັບຜົນໄດ້ຮັບທີ່ດີທີ່ສຸດ:

ການສ້າງພື້ນຖານທີ່ຫມັ້ນຄົງສໍາລັບເຮືອ Crystal:ແທ່ນປາຊິລິໂຄນສະໜອງແພລະຕະຟອມທີ່ແຂງແຮງ ແລະທົນທານຕໍ່ຄວາມຮ້ອນສໍາລັບເຮືອຊິລິຄອນພາຍໃນຫ້ອງເຕົາໄຟທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ. ຄວາມຫມັ້ນຄົງນີ້ຮັບປະກັນວ່າເຮືອຮັກສາຕໍາແຫນ່ງແລະທິດທາງຕະຫຼອດຂະບວນການ, ປ້ອງກັນການເຄື່ອນໄຫວທີ່ບໍ່ຕ້ອງການຫຼືການອຽງທີ່ອາດຈະລົບກວນການໄຫຼຂອງອາຍແກັສແລະຄວາມສອດຄ່ອງຂອງອຸນຫະພູມ.

ການປັບປຸງຄວາມເປັນເອກະພາບຂອງອຸນຫະພູມພາຍໃນຫ້ອງປະຕິກິລິຍາ:ໂດຍການແຍກເຮືອຊິລິໂຄນຢ່າງມີປະສິດທິພາບຈາກພື້ນ furnace ແລະຝາ, Silicon Pedestal ຫຼຸດຜ່ອນການສູນເສຍຄວາມຮ້ອນໂດຍຜ່ານການດໍາເນີນການແລະສົ່ງເສີມການກະຈາຍອຸນຫະພູມທີ່ເປັນເອກະພາບຫຼາຍພາຍໃນທໍ່ປະຕິກິລິຍາຄວາມຮ້ອນ. ຄວາມສາມາດໃນການຄຸ້ມຄອງຄວາມຮ້ອນທີ່ປັບປຸງນີ້ແມ່ນສໍາຄັນສໍາລັບການບັນລຸການແຜ່ກະຈາຍຫຼືການຜຸພັງທີ່ສອດຄ່ອງແລະຊ້ໍາກັນໃນທົ່ວຫນ້າດິນ wafer ທັງຫມົດ.

ການເພີ່ມປະສິດທິພາບຂອງ insulation ສໍາລັບການນໍາໃຊ້ພະລັງງານທີ່ດີທີ່ສຸດ:ຄຸນສົມບັດການສນວນກັນຄວາມຮ້ອນທີ່ປະກົດຂຶ້ນຂອງ Silicon Pedestal ປະກອບສ່ວນເຂົ້າໃນຂະບວນການທີ່ມີປະສິດທິພາບດ້ານພະລັງງານຫຼາຍຂຶ້ນໂດຍການຫຼຸດການສູນເສຍຄວາມຮ້ອນໃຫ້ກັບສະພາບແວດລ້ອມອ້ອມຂ້າງ. ນີ້ແປວ່າວົງຈອນການໃຫ້ຄວາມຮ້ອນແລະຄວາມເຢັນໄວຂຶ້ນ, ການບໍລິໂພກພະລັງງານຫຼຸດລົງ, ແລະໃນທີ່ສຸດ, ຄ່າໃຊ້ຈ່າຍໃນການປຸງແຕ່ງໂດຍລວມຫຼຸດລົງ.

2. ການເຊື່ອມໂຍງວັດສະດຸສໍາລັບຄຸນນະພາບ Wafer ດີກວ່າ:

ການຂະຫຍາຍຄວາມຮ້ອນທີ່ກົງກັນສໍາລັບການຫຼຸດຜ່ອນຄວາມກົດດັນຂອງ Wafer:The Silicon Pedestal, ຜະລິດຈາກວັດສະດຸຊິລິໂຄນທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງດຽວກັນກັບເຮືອແລະ wafers ເອງ, ສະເຫນີຂໍ້ໄດ້ປຽບທີ່ສໍາຄັນຫຼາຍກວ່າວັດສະດຸທາງເລືອກເຊັ່ນ quartz ຫຼື silicon carbide. ການປະສົມປະສານຂອງວັດສະດຸນີ້ຮັບປະກັນວ່າ pedestal, ເຮືອ, ແລະ wafers ຂະຫຍາຍແລະເຮັດສັນຍາໃນອັດຕາເກືອບຄືກັນໃນລະຫວ່າງວົງຈອນຄວາມຮ້ອນແລະຄວາມເຢັນ, ຫຼຸດຜ່ອນຄວາມສ່ຽງຂອງຄວາມກົດດັນຄວາມຮ້ອນ, wafer bowing, ແລະຂໍ້ບົກພ່ອງຂອງ crystallographic ສາມາດສົ່ງຜົນກະທົບທາງລົບຕໍ່ຜົນຜະລິດແລະປະສິດທິພາບອຸປະກອນ.

ການຫຼຸດຜ່ອນການປົນເປື້ອນ ແລະ ຄວາມບໍ່ສອດຄ່ອງຂອງເສັ້ນດ່າງ:ການນໍາໃຊ້ຊິລິໂຄນທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງສໍາລັບທັງ Silicon Pedestal ແລະເຮືອກໍາຈັດທ່າແຮງຂອງການປົນເປື້ອນຈາກວັດສະດຸທີ່ບໍ່ຊ້ໍາກັນ, ຮັບປະກັນສະພາບແວດລ້ອມການປຸງແຕ່ງທີ່ປະເສີດສໍາລັບ wafers. ຄວາມເຂົ້າກັນໄດ້ຂອງວັດສະດຸນີ້ຍັງຊ່ວຍຫຼຸດຜ່ອນຄວາມສ່ຽງຂອງຄວາມບໍ່ສອດຄ່ອງຂອງເສັ້ນດ່າງໃນການໂຕ້ຕອບຂອງ wafer-boat, ປະກອບສ່ວນເຂົ້າໃນການປັບປຸງຄຸນນະພາບຂອງໄປເຊຍກັນແລະຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງຂໍ້ບົກພ່ອງຫຼຸດລົງ.