Tantalum Carbide Chuck

Semicorex Tantalum Carbide Chuck ມີຄວາມຫມັ້ນຄົງດ້ານຄວາມຮ້ອນທີ່ໂດດເດັ່ນ, ສາມາດທົນອຸນຫະພູມໄດ້ເຖິງ 3880 ° C. ຄຸນສົມບັດນີ້ຮັບປະກັນວ່າ Tantalum Carbide Chuck ຮັກສາຄວາມສົມບູນຂອງໂຄງສ້າງແລະການປະຕິບັດເຖິງແມ່ນວ່າພາຍໃຕ້ສະພາບຄວາມຮ້ອນທີ່ຮຸນແຮງ, ທີ່ຈໍາເປັນສໍາລັບຂະບວນການເຊັ່ນ: ການຊຶມເສົ້າຂອງອາຍພິດທາງເຄມີ (CVD) ແລະການປ່ອຍອາຍພິດທາງກາຍະພາບ (PVD).  ດ້ວຍຄ່າຄວາມແຂງທີ່ທຽບເທົ່າກັບເພັດ, Tantalum Carbide Chuck ສະແດງຄວາມທົນທານຕໍ່ການສວມໃສ່ພິເສດ. ລັກສະນະນີ້ແມ່ນສໍາຄັນໃນການຜະລິດ semiconductor ບ່ອນທີ່ຄວາມແມ່ນຍໍາແລະຄວາມທົນທານແມ່ນສໍາຄັນທີ່ສຸດ. ຄວາມແຂງສູງຫຼຸດຜ່ອນການສວມໃສ່ແລະ tear, ຍືດອາຍຸຂອງ chuck ແລະຫຼຸດຜ່ອນຄ່າໃຊ້ຈ່າຍໃນການບໍາລຸງຮັກສາ. Tantalum Carbide ມີຄວາມທົນທານສູງຕໍ່ການກັດກ່ອນຂອງສານເຄມີ, ໂດຍສະເພາະໃນສະພາບແວດລ້ອມທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກັບອາຊິດທີ່ຮຸກຮານແລະເປັນດ່າງ. ຄວາມຕ້ານທານນີ້ຮັບປະກັນ Tantalum Carbide Chuck ຍັງບໍ່ໄດ້ຮັບຜົນກະທົບຈາກສານ corrosive ທີ່ໃຊ້ໃນຂະບວນການ semiconductor ຕ່າງໆ, ຮັກສາການປະຕິບັດແລະຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືໃນໄລຍະເວລາ.

Tantalum Carbide Chuck ເປັນຕົວແທນຂອງຄວາມກ້າວຫນ້າທີ່ສໍາຄັນໃນເຕັກໂນໂລຊີການຜະລິດ semiconductor. ຄວາມຫມັ້ນຄົງດ້ານຄວາມຮ້ອນ, ຄວາມແຂງ, ຄວາມຕ້ານທານຕໍ່ການກັດກ່ອນ, ແລະການນໍາໄຟຟ້າເຮັດໃຫ້ມັນເປັນອົງປະກອບທີ່ຂາດບໍ່ໄດ້ສໍາລັບຂະບວນການຜະລິດ semiconductor ຢ່າງກວ້າງຂວາງ. ໂດຍການລວມເອົາ TaC Chuck, ຜູ້ຜະລິດສາມາດບັນລຸຄວາມແມ່ນຍໍາສູງ, ຄວາມທົນທານເພີ່ມຂຶ້ນ, ແລະປັບປຸງປະສິດທິພາບໂດຍລວມໃນສາຍການຜະລິດຂອງພວກເຂົາ, ໃນທີ່ສຸດກໍ່ປະກອບສ່ວນເຂົ້າໃນຄວາມກ້າວຫນ້າຂອງອຸດສາຫະກໍາ semiconductor.