ຖັງທໍາຄວາມສະອາດ

ຖັງທໍາຄວາມສະອາດ Semicorex ແມ່ນຫັດຖະກໍາຈາກ quartz ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງ, ສະຫນອງການປະຕິບັດທີ່ບໍ່ສາມາດປຽບທຽບໄດ້ແລະຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖື, ຮັບປະກັນວ່າ wafers semiconductor ໄດ້ຖືກອະນາໄມຢ່າງລະອຽດແລະບໍ່ມີສານປົນເປື້ອນທີ່ສາມາດທໍາລາຍຄວາມສົມບູນຂອງມັນ.

Quartz ຖືກເລືອກສໍາລັບການກໍ່ສ້າງຖັງທໍາຄວາມສະອາດເນື່ອງຈາກການຕໍ່ຕ້ານສານເຄມີພິເສດແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຄວາມຮ້ອນ. ຖັງທໍາຄວາມສະອາດ Quartz ຕ້ານກັບສານເຄມີທີ່ຮຸນແຮງທີ່ໃຊ້ທົ່ວໄປໃນຂະບວນການທໍາຄວາມສະອາດ, ເຊັ່ນອາຊິດ hydrofluoric ແລະ etchants ທີ່ເຂັ້ມແຂງອື່ນໆ. ຄວາມຫມັ້ນຄົງດ້ານຄວາມຮ້ອນຂອງມັນຮັບປະກັນວ່າມັນສາມາດທົນທານຕໍ່ອຸນຫະພູມສູງທີ່ມັກຈະຕ້ອງການໃນການປຸງແຕ່ງ semiconductor ໂດຍບໍ່ມີການ deforming ຫຼືຊຸດໂຊມ, ຮັກສາຄວາມສົມບູນຂອງໂຄງສ້າງແລະການປະຕິບັດໃນໄລຍະຍາວ.

ການອອກແບບຂອງຖັງທໍາຄວາມສະອາດໄດ້ຖືກອອກແບບຢ່າງລະມັດລະວັງເພື່ອເພີ່ມປະສິດທິພາບຂະບວນການທໍາຄວາມສະອາດ. ພາຍໃນກ້ຽງ, ບໍ່ມີຮອຍຕໍ່ຂອງມັນຫຼຸດຜ່ອນການສ້າງອະນຸພາກແລະປ້ອງກັນການສະສົມຂອງສານປົນເປື້ອນ. ຖັງທໍາຄວາມສະອາດໄດ້ຖືກອອກແບບເພື່ອຮອງຮັບວິທີການທໍາຄວາມສະອາດຕ່າງໆ, ລວມທັງອາບນ້ໍາເຄມີ, ການທໍາຄວາມສະອາດ ultrasonic, ແລະການທໍາຄວາມສະອາດ megasonic. ແຕ່ລະວິທີມີຄວາມໄດ້ປຽບສະເພາະຂອງມັນ, ແລະຄວາມຫລາກຫລາຍຂອງຖັງທໍາຄວາມສະອາດຊ່ວຍໃຫ້ມັນຖືກນໍາໃຊ້ໃນຫຼາຍຂັ້ນຕອນຂອງຂະບວນການທໍາຄວາມສະອາດ, ຈາກການທໍາຄວາມສະອາດ wafer ເບື້ອງຕົ້ນຈົນເຖິງການລ້າງສຸດທ້າຍແລະການແຫ້ງ.

ໃນອາບນ້ໍາເຄມີ, ຖັງທໍາຄວາມສະອາດຮັບປະກັນວ່າ wafers ໄດ້ຖືກສໍາຜັດຢ່າງເທົ່າທຽມກັນກັບການແກ້ໄຂການທໍາຄວາມສະອາດ, ສົ່ງເສີມການທໍາຄວາມສະອາດທີ່ສອດຄ່ອງແລະຢ່າງລະອຽດ. ການສໍາຜັດທີ່ເປັນເອກະພາບແມ່ນມີຄວາມສໍາຄັນໃນການກໍາຈັດອະນຸພາກ, ສານຕົກຄ້າງອິນຊີ, ແລະສິ່ງປົນເປື້ອນຂອງໂລຫະອອກຈາກຫນ້າດິນ wafer. ໃນການທໍາຄວາມສະອາດ ultrasonic ແລະ megasonic, ຄື້ນຟອງສຽງຄວາມຖີ່ສູງສ້າງຟອງ cavitation ກ້ອງຈຸລະທັດໃນການແກ້ໄຂທໍາຄວາມສະອາດ. ເມື່ອຟອງເຫຼົ່ານີ້ຍຸບລົງ, ພວກມັນຈະສ້າງຄື້ນຊ໊ອກທີ່ມີພະລັງທີ່ຂັບໄລ່ແລະເອົາສິ່ງປົນເປື້ອນອອກຈາກຫນ້າດິນ. ການກໍ່ສ້າງ quartz ທີ່ເຂັ້ມແຂງຂອງຖັງທໍາຄວາມສະອາດສາມາດທົນກັບສະພາບທີ່ຮຸນແຮງທີ່ສ້າງຂຶ້ນໂດຍວິທີການທໍາຄວາມສະອາດເຫຼົ່ານີ້, ຮັບປະກັນຄວາມທົນທານແລະປະສິດທິພາບໃນໄລຍະຍາວ.