ເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ MOCVD

ເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນນີ້ຖືກສ້າງຂຶ້ນໂດຍໃຊ້ກຼາຟິດທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ມີລະດັບຄວາມບໍລິສຸດທີ່ຖືກຄວບຄຸມຢ່າງລະມັດລະວັງໃຫ້ຫນ້ອຍກວ່າ 5 ສ່ວນຕໍ່ລ້ານ (ppm). ຫຼັງຈາກນັ້ນ, graphite ໄດ້ຖືກເຄືອບດ້ວຍ vapor deposition (CVD) silicon carbide (SiC), boasting ລະດັບຄວາມບໍລິສຸດເກີນ 99.99995%. ການປະສົມປະສານຂອງວັດສະດຸນີ້ເຮັດໃຫ້ເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນມີຊຸດຄຸນສົມບັດທີ່ຂາດບໍ່ໄດ້ສໍາລັບການບັນລຸການປະຕິບັດທີ່ດີທີ່ສຸດໃນຂະບວນການປ່ອຍອາຍພິດທາງເຄມີຂອງໂລຫະ - ອິນຊີ (MOCVD).

ຫນຶ່ງໃນລັກສະນະທີ່ໂດດເດັ່ນທີ່ສຸດຂອງເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ Semicorex MOCVD ແມ່ນຄວາມບໍລິສຸດທາງເຄມີພິເສດຂອງມັນ. ແກນ graphite ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງຊ່ວຍຫຼຸດຜ່ອນການນໍາສິ່ງປົນເປື້ອນໃນລະຫວ່າງຂະບວນການທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ, ຮັບປະກັນການຊຶມເຊື້ອຂອງຮູບເງົາບາງໆທີ່ສະອາດທີ່ສຸດ. ການເຄືອບ CVD SiC ເສີມຂະຫຍາຍຄວາມບໍລິສຸດນີ້ຕື່ມອີກ, ສະຫນອງອຸປະສັກທີ່ເຂັ້ມແຂງຕໍ່ກັບປະຕິສໍາພັນທາງເຄມີທີ່ສາມາດທໍາລາຍຄວາມສົມບູນຂອງຊັ້ນທີ່ຝາກໄວ້. ລະດັບຄວາມບໍລິສຸດທາງເຄມີສູງນີ້ແມ່ນສໍາຄັນສໍາລັບການຜະລິດອຸປະກອນ semiconductor ທີ່ມີປະສິດຕິພາບສູງແລະຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖື.

ຍິ່ງໄປກວ່ານັ້ນ, ເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນແມ່ນແຂງແຮງແລະມີປະສິດທິພາບຄວາມຮ້ອນສູງ, ສາມາດທົນກັບສະພາບຄວາມຮ້ອນທີ່ຮຸນແຮງປົກກະຕິຂອງຂະບວນການ MOCVD. ຄຸນສົມບັດທີ່ມີຢູ່ແລ້ວຂອງ SiC, ເຊັ່ນ: ຈຸດລະລາຍສູງ ແລະການນໍາຄວາມຮ້ອນ, ປະກອບສ່ວນໃຫ້ເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນສາມາດຈັດການ ແລະກະຈາຍຄວາມຮ້ອນໄດ້ຢ່າງມີປະສິດທິພາບ. ປະສິດທິພາບຄວາມຮ້ອນນີ້ຮັບປະກັນການໃຫ້ຄວາມຮ້ອນທີ່ເປັນເອກະພາບໃນທົ່ວຊັ້ນໃຕ້ດິນ, ເຊິ່ງເປັນສິ່ງຈໍາເປັນສໍາລັບການບັນລຸການຊຶມເຊື້ອຂອງຮູບເງົາທີ່ເປັນເອກະພາບແລະຫຼຸດຜ່ອນການ gradients ຄວາມຮ້ອນທີ່ສາມາດນໍາໄປສູ່ການຜິດປົກກະຕິ.

ການນໍາໄຟຟ້າແມ່ນອີກພື້ນທີ່ຫນຶ່ງທີ່ເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ Semicorex MOCVD ດີເລີດ. ແກນ graphite ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງສະຫນອງການນໍາໄຟຟ້າທີ່ດີເລີດ, ຊ່ວຍໃຫ້ເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນສາມາດຮັບມືກັບການໂຫຼດໄຟຟ້າສູງໄດ້ງ່າຍຂຶ້ນ. ຄວາມສາມາດນີ້ແມ່ນມີຄວາມສໍາຄັນໂດຍສະເພາະໃນຂະບວນການ MOCVD ທີ່ຕ້ອງການການຄວບຄຸມທີ່ຊັດເຈນກ່ຽວກັບອຸນຫະພູມແລະອັດຕາການຝາກ. ຄວາມສາມາດຂອງເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນໃນການຮັກສາປະສິດທິພາບໄຟຟ້າທີ່ຫມັ້ນຄົງພາຍໃຕ້ການໂຫຼດສູງຮັບປະກັນເງື່ອນໄຂຂະບວນການທີ່ສອດຄ່ອງແລະສາມາດແຜ່ພັນໄດ້, ເຊິ່ງເປັນສິ່ງສໍາຄັນສໍາລັບການຜະລິດ semiconductor ທີ່ມີຜົນຜະລິດສູງ.

ພື້ນຜິວຮາບພຽງຂອງເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນໄດ້ຖືກອອກແບບຢ່າງພິຖີພິຖັນເພື່ອໃຫ້ມີການປ່ອຍອາຍພິດທີ່ສູງຂຶ້ນໄປສູ່ຊັ້ນໃຕ້ດິນ, ເພີ່ມປະສິດທິພາບຂອງການໂອນຄວາມຮ້ອນ radiative. ລັກສະນະການອອກແບບນີ້ຮັບປະກັນວ່າຊັ້ນໃຕ້ດິນໄດ້ຮັບຄວາມຮ້ອນທີ່ເປັນເອກະພາບ, ເຊິ່ງເປັນສິ່ງສໍາຄັນສໍາລັບການບັນລຸຮູບເງົາບາງໆທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງທີ່ມີຄວາມຫນາແຫນ້ນແລະຄຸນສົມບັດທີ່ສອດຄ່ອງ. ພື້ນຜິວ emissivity ສູງຍັງປະກອບສ່ວນກັບປະສິດທິພາບຄວາມຮ້ອນໂດຍລວມຂອງເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ, ຫຼຸດຜ່ອນການບໍລິໂພກພະລັງງານແລະຄ່າໃຊ້ຈ່າຍໃນການດໍາເນີນງານ.

ໃນແງ່ຂອງຄວາມທົນທານ, ເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ Semicorex MOCVD ສະຫນອງການຕໍ່ຕ້ານ corrosion ພິເສດ, inoxidizability, ແລະຄວາມເຂັ້ມແຂງກົນຈັກສູງ. ການເຄືອບ CVD SiC ສະຫນອງຊັ້ນປ້ອງກັນທີ່ເຂັ້ມແຂງທີ່ທົນທານຕໍ່ທາດອາຍຜິດ corrosive ແລະສານເຄມີທີ່ພົບທົ່ວໄປໃນຂະບວນການ MOCVD. ຄວາມຕ້ານທານຕໍ່ການກັດກ່ອນນີ້ຂະຫຍາຍອາຍຸການເຮັດວຽກຂອງເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ, ຫຼຸດຜ່ອນຄ່າໃຊ້ຈ່າຍໃນການຮັກສາແລະການທົດແທນ. inoxidizability ຂອງເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນຮັບປະກັນວ່າມັນຄົງທີ່ແລະບໍ່ທໍາລາຍເຖິງແມ່ນວ່າຢູ່ໃນອຸນຫະພູມສູງ, ຮັກສາປະສິດທິພາບແລະຄວາມສົມບູນຂອງໂຄງສ້າງຂອງຕົນໃນໄລຍະການດໍາເນີນງານຍາວ.

ສຸດທ້າຍ, ຄວາມເຂັ້ມແຂງກົນຈັກສູງຂອງເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນຮັບປະກັນວ່າມັນສາມາດທົນຕໍ່ຄວາມກົດດັນທາງດ້ານຮ່າງກາຍທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກັບວົງຈອນຄວາມຮ້ອນແລະການຈັດການກັບຊັ້ນໃຕ້ດິນ. ຄວາມເຂັ້ມແຂງນີ້ຫຼຸດຜ່ອນຄວາມສ່ຽງຂອງຄວາມລົ້ມເຫຼວຂອງກົນຈັກ, ຮັບປະກັນການດໍາເນີນງານທີ່ຫນ້າເຊື່ອຖືແລະຢ່າງຕໍ່ເນື່ອງ.