MOCVD Wafer Carriers ສໍາລັບອຸດສາຫະກໍາ Semiconductor

Semicorex MOCVD Wafer Carriers ສໍາລັບອຸດສາຫະກໍາ Semiconductor ເປັນຜູ້ໃຫ້ບໍລິການດ້ານເທິງຂອງເສັ້ນທີ່ຖືກອອກແບບມາສໍາລັບການນໍາໃຊ້ໃນອຸດສາຫະກໍາ semiconductor. ອຸປະກອນການຄວາມບໍລິສຸດສູງຂອງຕົນຮັບປະກັນເຖິງແມ່ນວ່າ profile ຄວາມຮ້ອນແລະຮູບແບບການໄຫຼຂອງອາຍແກັສ laminar, ສະຫນອງ wafers ຄຸນນະພາບສູງ.

ສົ່ງສອບຖາມ

ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

MOCVD Wafer Carriers ຂອງພວກເຮົາສໍາລັບອຸດສາຫະກໍາ Semiconductor ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ຜະລິດໂດຍການປ່ອຍອາຍພິດຂອງສານເຄມີ CVD ພາຍໃຕ້ເງື່ອນໄຂ chlorination ທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ, ຮັບປະກັນຄວາມສອດຄ່ອງແລະຄວາມສອດຄ່ອງຂອງຜະລິດຕະພັນ. ມັນຍັງທົນທານຕໍ່ການກັດກ່ອນສູງ, ມີພື້ນຜິວຫນາແຫນ້ນແລະອະນຸພາກອັນດີ, ເຮັດໃຫ້ມັນທົນທານຕໍ່ອາຊິດ, ດ່າງ, ເກືອ, ແລະທາດປະຕິກອນອິນຊີ. ຄວາມຕ້ານທານການຜຸພັງຂອງອຸນຫະພູມສູງຂອງມັນຮັບປະກັນຄວາມຫມັ້ນຄົງໃນອຸນຫະພູມສູງເຖິງ 1600 ° C.
ຕິດຕໍ່ພວກເຮົາໃນມື້ນີ້ເພື່ອຮຽນຮູ້ເພີ່ມເຕີມກ່ຽວກັບ MOCVD Wafer Carriers ຂອງພວກເຮົາສໍາລັບອຸດສາຫະກໍາ Semiconductor.

ພາລາມິເຕີຂອງ MOCVD Wafer Carriers ສໍາລັບອຸດສາຫະກໍາ Semiconductor

ຂໍ້ມູນຈໍາເພາະຕົ້ນຕໍຂອງການເຄືອບ CVD-SIC
ຄຸນສົມບັດ SiC-CVD
ໂຄງປະກອບການໄປເຊຍກັນ	ໄລຍະ FCC β
ຄວາມຫນາແຫນ້ນ	g/ຊມ ³	3.21
ຄວາມແຂງ	ຄວາມແຂງຂອງ Vickers	2500
ຂະໜາດເມັດພືດ	ມມ	2~10
ຄວາມບໍລິສຸດທາງເຄມີ	%	99.99995
ຄວາມອາດສາມາດຄວາມຮ້ອນ	J kg-1 K-1	640
ອຸນຫະພູມ sublimation	℃	2700
ຄວາມເຂັ້ມແຂງ Felexural	MPa (RT 4 ຈຸດ)	415
ໂມດູລຂອງໜຸ່ມ	Gpa (4pt ງໍ, 1300℃)	430
ການຂະຫຍາຍຄວາມຮ້ອນ (C.T.E)	10-6K-1	4.5
ການນໍາຄວາມຮ້ອນ	(W/mK)	300

ຄຸນສົມບັດຂອງ SiC Coated Graphite Susceptor ສໍາລັບ MOCVD

- ຫຼີກເວັ້ນການປອກເປືອກອອກແລະຮັບປະກັນການເຄືອບທຸກດ້ານ
ການຕໍ່ຕ້ານການຜຸພັງຂອງອຸນຫະພູມສູງ: ມີຄວາມຫມັ້ນຄົງໃນອຸນຫະພູມສູງເຖິງ 1600 ° C
ຄວາມບໍລິສຸດສູງ: ເຮັດໂດຍການປ່ອຍອາຍພິດທາງເຄມີ CVD ພາຍໃຕ້ເງື່ອນໄຂ chlorination ອຸນຫະພູມສູງ.
ຄວາມຕ້ານທານຕໍ່ການກັດກ່ອນ: ຄວາມແຂງສູງ, ດ້ານຫນາແຫນ້ນແລະອະນຸພາກລະອຽດ.
ຄວາມຕ້ານທານຕໍ່ການກັດກ່ອນ: ອາຊິດ, ດ່າງ, ເກືອແລະທາດປະສົມອິນຊີ.
- ບັນລຸຮູບແບບການໄຫຼຂອງອາຍແກັສ laminar ທີ່ດີທີ່ສຸດ
- ຮັບປະກັນຄວາມສະເຫມີພາບຂອງ profile ຄວາມຮ້ອນ
- ປ້ອງກັນການປົນເປື້ອນຫຼື impurities ການແຜ່ກະຈາຍ