ຂ່າວອຸດສາຫະກໍາ

ການຂະຫຍາຍຕົວຢ່າງຫຼວງຫຼາຍຂອງຕະຫຼາດ SiC coated graphite susceptor

MOCVD ແມ່ນອຸປະກອນທີ່ສໍາຄັນ

ກອງທຶນສໍາລັບໂຄງການ Semiconductor

ທຸກໆປະເທດໄດ້ຮັບຮູ້ເຖິງຄວາມສຳຄັນຂອງຊິບ ແລະ ດຽວນີ້ກຳລັງເລັ່ງສ້າງລະບົບລະບົບຕ່ອງໂສ້ການສະໜອງການຜະລິດຊິບຂອງຕົນເອງເພື່ອປ້ອງກັນບັນຫາການຂາດແຄນຊິບອີກ. ແຕ່ໂຮງງານຊັ້ນສູງທີ່ບໍ່ມີຜູ້ອອກແບບຊິບລຸ້ນຕໍ່ໄປຈະຄືກັນກັບ âFabs ທີ່ບໍ່ມີຊິບໄດ້.

TSMC: ການຜະລິດການທົດລອງຄວາມສ່ຽງຕໍ່ຂະບວນການ 2nm ໃນປີຫນ້າ

ໃນບົດລາຍງານປະຈໍາປີທີ່ປ່ອຍອອກມາໃຫມ່ຂອງພວກເຂົາ, ປະທານ TSMC Deyin Liu ແລະ CEO Chieh-Jia Wei ໄດ້ເປີດເຜີຍຄວາມກ້າວຫນ້າທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກັບຂະບວນການ 2nm.

ສະຖານະການຄໍາຮ້ອງສະຫມັກສໍາລັບຊັ້ນ Epitaxial

ພວກເຮົາຮູ້ວ່າຊັ້ນ epitaxial ເພີ່ມເຕີມຈໍາເປັນຕ້ອງໄດ້ສ້າງຂຶ້ນຢູ່ເທິງຂອງ substrates wafer ບາງສໍາລັບການ fabrication ອຸປະກອນ, ປົກກະຕິແລ້ວອຸປະກອນ LED emitting, ເຊິ່ງຮຽກຮ້ອງໃຫ້ມີຊັ້ນ epitaxial GaAs ເທິງຂອງ substrates silicon; ຊັ້ນ SiC epitaxial ແມ່ນປູກຢູ່ເທິງຂອງ substrates SiC conductive ສໍາລັບອຸປະກອນການກໍ......

ສົນທະນາກ່ຽວກັບ furnace CVD