ຜະລິດຕະພັນ

Semicorex ເປັນຜູ້ຜະລິດມືອາຊີບແລະຜູ້ສະຫນອງໃນປະເທດຈີນ. ໂຮງງານຜະລິດຂອງພວກເຮົາສະຫນອງ barrel susceptor, mocvd susceptor, ເຮືອ wafer, ແລະອື່ນໆ ການອອກແບບທີ່ສຸດ, ວັດຖຸດິບທີ່ມີຄຸນນະພາບ, ປະສິດທິພາບສູງແລະລາຄາທີ່ແຂ່ງຂັນແມ່ນສິ່ງທີ່ລູກຄ້າທຸກຄົນຕ້ອງການ, ແລະນັ້ນກໍ່ແມ່ນສິ່ງທີ່ພວກເຮົາສາມາດສະເຫນີໃຫ້ທ່ານ. ພວກເຮົາເອົາຄຸນນະພາບສູງ, ລາຄາທີ່ເຫມາະສົມແລະການບໍລິການທີ່ສົມບູນແບບ.

View as

ການເຄືອບ SiC ອຸນຫະພູມສູງສໍາລັບ plasma Ech Chambers

ໃນເວລາທີ່ມັນມາກັບຂະບວນການຈັດການ wafer ເຊັ່ນ epitaxy ແລະ MOCVD, Semicorex's High-Temperature SiC Coating for Plasma Etch Chambers is the top choice. ຜູ້ໃຫ້ບໍລິການຂອງພວກເຮົາໃຫ້ຄວາມຕ້ານທານຄວາມຮ້ອນທີ່ເຫນືອກວ່າ, ເຖິງແມ່ນຄວາມສອດຄ່ອງຂອງຄວາມຮ້ອນ, ແລະການຕໍ່ຕ້ານສານເຄມີທີ່ທົນທານຍ້ອນການເຄືອບ Crystal SiC ທີ່ດີຂອງພວກເຮົາ.

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

ICP Plasma Etching Tray

Semicorex's ICP Plasma Etching Tray ແມ່ນວິສະວະກໍາໂດຍສະເພາະສໍາລັບຂະບວນການຈັດການ wafer ທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງເຊັ່ນ epitaxy ແລະ MOCVD. ດ້ວຍຄວາມຫມັ້ນຄົງ, ຄວາມຕ້ານທານການຜຸພັງຂອງອຸນຫະພູມສູງເຖິງ 1600 ° C, ຜູ້ໃຫ້ບໍລິການຂອງພວກເຮົາສະຫນອງເຖິງແມ່ນໂປຣໄຟລຄວາມຮ້ອນ, ຮູບແບບການໄຫຼຂອງອາຍແກັສ laminar, ແລະປ້ອງກັນການປົນເປື້ອນຫຼືການແຜ່ກະຈາຍຂອງ impurities.

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

ICP Plasma Etching ລະບົບ

ຜູ້ໃຫ້ບໍລິການ SiC Coated ຂອງ Semicorex ສໍາລັບລະບົບ ICP Plasma Etching System ເປັນການແກ້ໄຂທີ່ເຊື່ອຖືໄດ້ແລະປະຫຍັດຄ່າໃຊ້ຈ່າຍສໍາລັບຂະບວນການຈັດການ wafer ທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງເຊັ່ນ epitaxy ແລະ MOCVD. ຜູ້ໃຫ້ບໍລິການຂອງພວກເຮົາມີສານເຄືອບ Crystal SiC ທີ່ດີທີ່ໃຫ້ຄວາມຕ້ານທານຄວາມຮ້ອນທີ່ເຫນືອກວ່າ, ເຖິງແມ່ນວ່າຄວາມເປັນເອກະພາບຂອງຄວາມຮ້ອນ, ແລະທົນທານຕໍ່ສານເຄມີທີ່ທົນທານ.

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

plasma ຄູ່ກັນແບບ inductively (ICP)

Semicorex's silicon carbide coated susceptor ສໍາລັບ Inductively-Coupled Plasma (ICP) ຖືກອອກແບບໂດຍສະເພາະສໍາລັບຂະບວນການຈັດການ wafer ທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງເຊັ່ນ epitaxy ແລະ MOCVD. ດ້ວຍຄວາມຫມັ້ນຄົງ, ຄວາມຕ້ານທານການຜຸພັງຂອງອຸນຫະພູມສູງເຖິງ 1600 ° C, ຜູ້ໃຫ້ບໍລິການຂອງພວກເຮົາຮັບປະກັນເຖິງແມ່ນໂຄງສ້າງຄວາມຮ້ອນ, ຮູບແບບການໄຫຼຂອງອາຍແກັສ laminar, ແລະປ້ອງກັນການປົນເປື້ອນຫຼືການແຜ່ກະຈາຍຂອງ impurities.

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

ICP Etching Wafer Holder

ຜູ້ຖື wafer etching ICP ຂອງ Semicorex ແມ່ນການແກ້ໄຂທີ່ສົມບູນແບບສໍາລັບຂະບວນການຈັດການ wafer ທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງເຊັ່ນ epitaxy ແລະ MOCVD. ດ້ວຍຄວາມຫມັ້ນຄົງ, ຄວາມຕ້ານທານການຜຸພັງຂອງອຸນຫະພູມສູງເຖິງ 1600 ° C, ຜູ້ໃຫ້ບໍລິການຂອງພວກເຮົາຮັບປະກັນເຖິງແມ່ນໂຄງສ້າງຄວາມຮ້ອນ, ຮູບແບບການໄຫຼຂອງອາຍແກັສ laminar, ແລະປ້ອງກັນການປົນເປື້ອນຫຼືການແຜ່ກະຈາຍຂອງ impurities.

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

ICP Etching Carrier Plate

ແຜ່ນ ICP Etching Carrier Plate ຂອງ Semicorex ແມ່ນການແກ້ໄຂທີ່ສົມບູນແບບສໍາລັບຄວາມຕ້ອງການຂອງການຈັດການ wafer ແລະຂະບວນການຝາກຮູບເງົາບາງໆ. ຜະລິດຕະພັນຂອງພວກເຮົາສະຫນອງຄວາມຮ້ອນທີ່ເຫນືອກວ່າແລະການຕໍ່ຕ້ານ corrosion, ເຖິງແມ່ນວ່າຄວາມຮ້ອນເປັນເອກະພາບ, ແລະຮູບແບບການໄຫຼຂອງອາຍແກັສ laminar. ດ້ວຍພື້ນຜິວທີ່ສະອາດ ແລະລຽບນຽນ, ຜູ້ໃຫ້ບໍລິການຂອງພວກເຮົາແມ່ນດີເລີດສຳລັບການຈັດການ wafers pristine.

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

<...90 91 92 93 94...99 >