ທໍ່ກະຈາຍ Quartz

ຫນຶ່ງໃນຂໍ້ໄດ້ປຽບຕົ້ນຕໍຂອງທໍ່ກະຈາຍ Quartz ແມ່ນຄວາມສາມາດໃນການປ້ອງກັນການປົນເປື້ອນຂອງບັນຍາກາດ furnace ໃນລະຫວ່າງການຜະລິດ wafer. ສິ່ງປົນເປື້ອນເຊັ່ນ: ໂຊດຽມ, ເຊິ່ງສາມາດເກີດຂຶ້ນຕາມທໍາມະຊາດໃນດິນຊາຍຊິລິກາທີ່ໃຊ້ໃນການຜະລິດ quartz fused, ສາມາດສົ່ງຜົນກະທົບຢ່າງຫຼວງຫຼາຍຕໍ່ຄຸນສົມບັດໄຟຟ້າຂອງອຸປະກອນ semiconductor. Semicorex Quartz Diffusion Tube ແມ່ນຜະລິດດ້ວຍເນື້ອໃນ silica 99.998%, ຮັບປະກັນຄວາມບໍລິສຸດພິເສດແລະຫຼຸດຜ່ອນຄວາມສ່ຽງຕໍ່ການປົນເປື້ອນ. ລະດັບຄວາມບໍລິສຸດສູງນີ້ແມ່ນສໍາຄັນຕໍ່ການຮັກສາຄວາມສົມບູນຂອງຂະບວນການຜະລິດ wafer ແລະການຜະລິດອຸປະກອນ semiconductor ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງ.

ຄຸນສົມບັດຄວາມຮ້ອນຂອງທໍ່ກະຈາຍ Quartz ແມ່ນມີຄວາມສໍາຄັນເທົ່າທຽມກັນໃນການຜະລິດ semiconductor. ທໍ່ກະຈາຍ Quartz ຂອງພວກເຮົາສາມາດທົນທານຕໍ່ອຸນຫະພູມສູງເຖິງ 1250 ° C, ເຮັດໃຫ້ມັນເຫມາະສົມກັບສະພາບຄວາມຮ້ອນທີ່ຮຸນແຮງທີ່ມີຢູ່ໃນຂະບວນການຜຸພັງຄວາມຮ້ອນແລະການຫມຸນ. ການຜຸພັງຄວາມຮ້ອນປະກອບດ້ວຍ ການຂະຫຍາຍຕົວຂອງຊັ້ນຊິລິໂຄນ dioxide ເທິງຫນ້າດິນຂອງ silicon wafers, ເຊິ່ງເຮັດຫນ້າທີ່ເປັນ insulator ແລະເປັນສິ່ງຈໍາເປັນສໍາລັບການເຮັດວຽກທີ່ເຫມາະສົມຂອງອຸປະກອນ semiconductor. ຄວາມຕ້ານທານຄວາມຮ້ອນສູງຂອງ Semicorex Quartz Diffusion Tube ຮັບປະກັນວ່າຂະບວນການຜຸພັງເກີດຂື້ນຢ່າງເປັນເອກະພາບແລະບໍ່ມີການແຊກແຊງຈາກວັດສະດຸທໍ່. ຄວາມເປັນເອກະພາບນີ້ແມ່ນສໍາຄັນສໍາລັບການບັນລຸການປະຕິບັດທີ່ສອດຄ່ອງແລະເຊື່ອຖືໄດ້ໃນອຸປະກອນ semiconductor ສຸດທ້າຍ.

Annealing, ຂະບວນການທີ່ສໍາຄັນອີກອັນຫນຶ່ງໃນການຜະລິດ wafer semiconductor, ກ່ຽວຂ້ອງກັບການໃຫ້ຄວາມຮ້ອນແລະຄວາມເຢັນຄວບຄຸມຂອງ wafers ເພື່ອດັດແປງຄຸນສົມບັດທາງກາຍະພາບແລະສານເຄມີ. ຂະບວນການດັ່ງກ່າວມີຈຸດປະສົງເພື່ອປັບປຸງໂຄງສ້າງໄປເຊຍກັນຂອງຊິລິໂຄນ, ກະຕຸ້ນ dopants, ແລະຫຼຸດຜ່ອນຄວາມຜິດປົກກະຕິ. Semicorex Quartz Diffusion Tube ສະຫນອງຄວາມຫມັ້ນຄົງແລະຄວາມຕ້ານທານຄວາມຮ້ອນທີ່ຈໍາເປັນສໍາລັບການ annealing ປະສິດທິພາບ, ຮັບປະກັນວ່າ wafers ໄດ້ຮັບການປິ່ນປົວ uniformly ແລະບັນລຸຄຸນສົມບັດວັດສະດຸທີ່ຕ້ອງການ.

ນອກເຫນືອໄປຈາກຄວາມຕ້ານທານຄວາມຮ້ອນສູງ, Semicorex Quartz Diffusion Tube ສະແດງໃຫ້ເຫັນຄວາມຕ້ານທານພິເສດຕໍ່ການຊ໊ອກຄວາມຮ້ອນ. ຂະບວນການຜະລິດ semiconductor ມັກຈະກ່ຽວຂ້ອງກັບການປ່ຽນແປງຂອງອຸນຫະພູມຢ່າງໄວວາ, ເຊິ່ງສາມາດເຮັດໃຫ້ເກີດການຊ໊ອກຄວາມຮ້ອນແລະຄວາມເສຍຫາຍທີ່ອາດມີວັດສະດຸທີ່ບໍ່ໄດ້ຖືກອອກແບບມາເພື່ອທົນກັບສະພາບດັ່ງກ່າວ. ຄວາມຕ້ານທານສູງຕໍ່ການຊ໊ອກຄວາມຮ້ອນຂອງທໍ່ກະຈາຍ Quartz ຮັບປະກັນວ່າມັນສາມາດຮັບມືກັບວົງຈອນຄວາມຮ້ອນແລະຄວາມເຢັນຢ່າງໄວວາປົກກະຕິໃນການຜະລິດ wafer. ຄວາມທົນທານນີ້ຊ່ວຍຮັກສາຄວາມສົມບູນຂອງ Quartz Diffusion Tube, ຮັບປະກັນຄວາມທົນທານແລະຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືຂອງພວກເຂົາໃນສະພາບແວດລ້ອມການຜະລິດ.

ຄວາມໂປ່ງໃສ UV ແມ່ນຜົນປະໂຫຍດທີ່ສໍາຄັນອີກອັນຫນຶ່ງຂອງ Semicorex Quartz Diffusion Tube. ໃນຂະບວນການທີ່ແສງ UV ຖືກນໍາໃຊ້ເພື່ອຈຸດປະສົງການກວດສອບຫຼືການເປີດໃຊ້ງານ, ຄວາມໂປ່ງໃສ UV ທີ່ດີເລີດຂອງທໍ່ quartz ຂອງພວກເຮົາອະນຸຍາດໃຫ້ມີການຄວບຄຸມແລະການຕິດຕາມຂະບວນການທີ່ດີກວ່າ. ຄວາມໂປ່ງໃສນີ້ຮັບປະກັນວ່າ wafers ຖືກປະຕິບັດຢ່າງຖືກຕ້ອງແລະສອດຄ່ອງ, ເຊິ່ງເປັນສິ່ງຈໍາເປັນສໍາລັບການບັນລຸຄຸນລັກສະນະໄຟຟ້າທີ່ຕ້ອງການໃນອຸປະກອນ semiconductor ສຸດທ້າຍ. ຄວາມສາມາດໃນການຕິດຕາມແລະຄວບຄຸມຂະບວນການທີ່ມີຄວາມແມ່ນຍໍາເພີ່ມຄຸນນະພາບແລະຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືຂອງອຸປະກອນ semiconductor ທີ່ຜະລິດ.

Semicorex ເຂົ້າໃຈວ່າຂະບວນການຜະລິດ semiconductor ທີ່ແຕກຕ່າງກັນມີຄວາມຕ້ອງການທີ່ເປັນເອກະລັກ. ເພື່ອຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການທີ່ຫຼາກຫຼາຍເຫຼົ່ານີ້, ພວກເຮົາສະເຫນີການກໍານົດເອງຂອງ Quartz Diffusion Tube ອອກແບບທີ່ເຫມາະສົມກັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກຜູ້ໃຊ້ສຸດທ້າຍ. ການອອກແບບທີ່ກໍາຫນົດເອງຂອງພວກເຮົາສາມາດປະກອບມີທໍ່ດຽວຫຼືສອງຝາ, ມີຫຼືບໍ່ມີທໍ່ທໍ່, ແລະການຕັ້ງຄ່າ flange ຕ່າງໆ. ຄວາມຍືດຫຍຸ່ນນີ້ຊ່ວຍໃຫ້ພວກເຮົາສະຫນອງການແກ້ໄຂທີ່ສອດຄ່ອງກັບຄວາມຕ້ອງການຂອງຂະບວນການຜະລິດຂອງລູກຄ້າຂອງພວກເຮົາຢ່າງແນ່ນອນ. ຄໍາຫມັ້ນສັນຍາຂອງພວກເຮົາໃນການປັບແຕ່ງຮັບປະກັນວ່າພວກເຮົາສາມາດແກ້ໄຂສິ່ງທ້າທາຍແລະຄວາມຕ້ອງການສະເພາະຂອງແຕ່ລະຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ, ການສະຫນອງການແຜ່ກະຈາຍ Quartz Tube ທີ່ເສີມຂະຫຍາຍປະສິດທິພາບແລະຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືຂອງການຜະລິດ semiconductor.

ຄວາມສາມາດໃນການເຮັດວຽກກັບເສັ້ນຜ່າສູນກາງຂອງທໍ່ທີ່ກວ້າງຂວາງແມ່ນປະໂຫຍດອີກອັນຫນຶ່ງຂອງ Semicorex Quartz Diffusion Tube. ພວກເຮົາສາມາດຜະລິດທໍ່ quartz ທີ່ມີເສັ້ນຜ່າກາງເຖິງ 900mm ແລະ flanges ຂະຫນາດໃຫຍ່ເລັກນ້ອຍ. ລະດັບຂະຫນາດນີ້ຮັບປະກັນວ່າພວກເຮົາສາມາດສະຫນອງທໍ່ quartz ທີ່ເຫມາະສົມສໍາລັບຂະບວນການຜະລິດ semiconductor ໃດກໍ່ຕາມ, ບໍ່ວ່າຈະກ່ຽວຂ້ອງກັບການຄົ້ນຄວ້າແລະການພັດທະນາຂະຫນາດນ້ອຍຫຼືການຜະລິດຂະຫນາດໃຫຍ່. ຄວາມສາມາດໃນການຮອງຮັບຂະຫນາດຕ່າງໆຂອງພວກເຮົາຮັບປະກັນວ່າພວກເຮົາສາມາດຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການສະເພາະຂອງລູກຄ້າຂອງພວກເຮົາແລະສະຫນອງການແກ້ໄຂທີ່ເສີມຂະຫຍາຍຂະບວນການຜະລິດຂອງພວກເຂົາ.