ອົງປະກອບການເຄືອບ SiC

Semicorexການເຄືອບ SiCອົງປະກອບໄດ້ຖືກອອກແບບເພື່ອສະຫນັບສະຫນູນການຂະຫຍາຍຕົວຂອງໄປເຊຍກັນ SiC ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງໃນລະຫວ່າງຂະບວນການເຕີບໂຕ epitaxial. Silicon carbide ເປັນວັດສະດຸທີ່ຮູ້ຈັກສໍາລັບການນໍາຄວາມຮ້ອນພິເສດຂອງມັນ, ມີຄວາມເຂັ້ມແຂງກົນຈັກສູງ, ແລະຄວາມຕ້ານທານຕໍ່ການເຊື່ອມໂຊມຂອງອຸນຫະພູມສູງ, ເຮັດໃຫ້ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບການນໍາໃຊ້ semiconductor ຮຽກຮ້ອງໃຫ້ມີພະລັງງານສູງແລະປະສິດທິພາບສູງ. ໃນເຄື່ອງປະຕິກອນ SiC epitaxy, SiC Coating Component ຮັບໃຊ້ຈຸດປະສົງສອງຢ່າງ: ມັນເຮັດຫນ້າທີ່ເປັນສິ່ງກີດຂວາງປ້ອງກັນສະພາບທີ່ຮຸກຮານພາຍໃນເຕົາປະຕິກອນແລະຊ່ວຍຮັກສາເງື່ອນໄຂການເຕີບໂຕທີ່ດີທີ່ສຸດໂດຍການຮັບປະກັນການແຜ່ກະຈາຍຄວາມຮ້ອນແລະປະຕິກິລິຍາເຄມີທີ່ເປັນເອກະພາບ. ອົງປະກອບມີບົດບາດສໍາຄັນໃນການສ້າງສະພາບແວດລ້ອມທີ່ເຫມາະສົມສໍາລັບການເຕີບໂຕຂອງຜລຶກ, ເຊິ່ງມີອິດທິພົນໂດຍກົງຕໍ່ການປະຕິບັດແລະຜົນຜະລິດຂອງ wafers SiC ສຸດທ້າຍ.

ການອອກແບບຂອງອົງປະກອບມີລັກສະນະຄວາມບໍລິສຸດສູງການເຄືອບ SiC. ໃນຖານະເປັນເຄື່ອງບໍລິໂພກທົ່ວໄປໃນການຜະລິດ semiconductor, ການເຄືອບ SiC ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນຖືກນໍາໃຊ້ໃນ substrate, epitaxy, ການແຜ່ກະຈາຍ oxidation, etching ແລະ ion implantation. ຄຸນສົມບັດທາງກາຍະພາບແລະສານເຄມີຂອງການເຄືອບມີຄວາມຕ້ອງການທີ່ເຄັ່ງຄັດກ່ຽວກັບການທົນທານຕໍ່ອຸນຫະພູມສູງແລະການຕໍ່ຕ້ານ corrosion, ເຊິ່ງມີຜົນກະທົບໂດຍກົງຕໍ່ຜົນຜະລິດແລະຊີວິດຂອງຜະລິດຕະພັນ. ດັ່ງນັ້ນ, ການກະກຽມການເຄືອບ SiC ແມ່ນສໍາຄັນ.

ລັກສະນະທີ່ສໍາຄັນອີກອັນຫນຶ່ງຂອງອົງປະກອບການເຄືອບ SiC ແມ່ນການນໍາຄວາມຮ້ອນທີ່ດີເລີດຂອງມັນ. ໃນລະຫວ່າງຂະບວນການ SiC epitaxy, ເຕົາປະຕິກອນດໍາເນີນການຢູ່ໃນອຸນຫະພູມທີ່ສູງທີ່ສຸດ, ມັກຈະເກີນ 1,600 ° C. ຄວາມສາມາດໃນການກະຈາຍຄວາມຮ້ອນຢ່າງມີປະສິດທິພາບແມ່ນສໍາຄັນຕໍ່ການຮັກສາຂະບວນການທີ່ຫມັ້ນຄົງແລະຮັບປະກັນວ່າເຕົາປະຕິກອນເຮັດວຽກຢູ່ໃນຂອບເຂດຈໍາກັດຂອງອຸນຫະພູມທີ່ປອດໄພ. ອົງປະກອບການເຄືອບ SiC ຮັບປະກັນການແຜ່ກະຈາຍຄວາມຮ້ອນທີ່ເປັນເອກະພາບ, ຫຼຸດຜ່ອນຄວາມສ່ຽງຂອງຈຸດຮ້ອນແລະປັບປຸງການຄຸ້ມຄອງຄວາມຮ້ອນໂດຍລວມຂອງເຕົາປະຕິກອນ. ນີ້ເປັນສິ່ງສໍາຄັນໂດຍສະເພາະໃນເວລາທີ່ຈັດການກັບການຜະລິດຂະຫນາດໃຫຍ່, ບ່ອນທີ່ຄວາມສອດຄ່ອງຂອງອຸນຫະພູມແມ່ນສໍາຄັນຕໍ່ກັບຄວາມສອດຄ່ອງຂອງການຂະຫຍາຍຕົວຂອງໄປເຊຍກັນໃນທົ່ວ wafers ຫຼາຍ.

ຍິ່ງໄປກວ່ານັ້ນ, ອົງປະກອບການເຄືອບ SiC ສະຫນອງຄວາມເຂັ້ມແຂງກົນຈັກທີ່ໂດດເດັ່ນ, ເຊິ່ງເປັນສິ່ງສໍາຄັນສໍາລັບການຮັກສາຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງເຕົາປະຕິກອນໃນລະຫວ່າງການປະຕິບັດງານທີ່ມີຄວາມກົດດັນສູງ, ອຸນຫະພູມສູງ. ນີ້ຮັບປະກັນວ່າເຄື່ອງປະຕິກອນສາມາດຈັດການກັບຄວາມກົດດັນທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກັບຂະບວນການເຕີບໂຕຂອງ epitaxial ໂດຍບໍ່ມີການທໍາລາຍຄວາມສົມບູນຂອງວັດສະດຸ SiC ຫຼືລະບົບລວມ.

ການຜະລິດຄວາມແມ່ນຍໍາຂອງຜະລິດຕະພັນຮັບປະກັນວ່າແຕ່ລະຄົນການເຄືອບ SiCອົງປະກອບຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການດ້ານຄຸນນະພາບທີ່ເຂັ້ມງວດທີ່ຈໍາເປັນສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ semiconductor ກ້າວຫນ້າ. ອົງປະກອບແມ່ນຜະລິດດ້ວຍຄວາມທົນທານທີ່ແຫນ້ນຫນາ, ຮັບປະກັນການປະຕິບັດທີ່ສອດຄ່ອງແລະການບ່ຽງເບນຫນ້ອຍທີ່ສຸດໃນສະພາບຂອງເຕົາປະຕິກອນ. ນີ້ແມ່ນສິ່ງສໍາຄັນສໍາລັບການບັນລຸການຂະຫຍາຍຕົວໄປເຊຍກັນ SiC ເປັນເອກະພາບ, ເຊິ່ງເປັນສິ່ງຈໍາເປັນສໍາລັບການຜະລິດ semiconductor ທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງ, ຜົນຜະລິດສູງ. ດ້ວຍຄວາມແມ່ນຍໍາ, ທົນທານ, ແລະສະຖຽນລະພາບຄວາມຮ້ອນສູງ, ອົງປະກອບການເຄືອບ SiC ມີບົດບາດສໍາຄັນໃນການເພີ່ມປະສິດທິພາບຂອງຂະບວນການ SiC epitaxy.

ອົງປະກອບການເຄືອບ SiC ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນຂະບວນການ SiC epitaxy, ເຕັກໂນໂລຢີທີ່ຈໍາເປັນສໍາລັບການຜະລິດ semiconductors ທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງ. ອຸປະກອນທີ່ອີງໃສ່ SiC ແມ່ນເຫມາະສົມສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກໃນອຸປະກອນເອເລັກໂຕຣນິກພະລັງງານເຊັ່ນ: ເຄື່ອງແປງພະລັງງານ, inverters, ແລະ powertrains ຍານພາຫະນະໄຟຟ້າ, ເນື່ອງຈາກຄວາມສາມາດໃນການຈັດການແຮງດັນສູງແລະກະແສໄຟຟ້າທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງ. ສ່ວນປະກອບຍັງຖືກນໍາໃຊ້ໃນການຜະລິດ SiC wafers ສໍາລັບອຸປະກອນ semiconductor ກ້າວຫນ້າທາງດ້ານທີ່ໃຊ້ໃນອຸດສາຫະກໍາການບິນ, ລົດຍົນ, ແລະໂທລະຄົມນາຄົມ. ນອກຈາກນັ້ນ, ອົງປະກອບທີ່ອີງໃສ່ SiC ແມ່ນມີມູນຄ່າສູງໃນການນໍາໃຊ້ທີ່ມີປະສິດທິພາບດ້ານພະລັງງານ, ເຮັດໃຫ້ SiC Coating Component ເປັນສ່ວນສໍາຄັນຂອງລະບົບຕ່ອງໂສ້ການສະຫນອງສໍາລັບເຕັກໂນໂລຢີ semiconductor ຮຸ່ນຕໍ່ໄປ.

ສະຫຼຸບສັງລວມ, ອົງປະກອບການເຄືອບ Semicorex SiC ສະເຫນີການແກ້ໄຂທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງສໍາລັບຂະບວນການ SiC epitaxy, ສະຫນອງການຄຸ້ມຄອງຄວາມຮ້ອນທີ່ດີກວ່າ, ຄວາມຫມັ້ນຄົງທາງເຄມີ, ແລະຄວາມທົນທານ. ອົງປະກອບໄດ້ຖືກອອກແບບເພື່ອເສີມຂະຫຍາຍສະພາບແວດລ້ອມການເຕີບໃຫຍ່ຂອງຜລຶກ, ນໍາໄປສູ່ການ wafers SiC ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງທີ່ມີຂໍ້ບົກພ່ອງຫນ້ອຍ, ເຮັດໃຫ້ມັນເປັນສິ່ງຈໍາເປັນສໍາລັບການຜະລິດ semiconductor ທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງ. ດ້ວຍຄວາມຊ່ຽວຊານຂອງພວກເຮົາໃນວັດສະດຸ semiconductor ແລະຄວາມມຸ່ງຫມັ້ນທີ່ຈະນະວັດກໍາແລະຄຸນນະພາບ, Semicorex ຮັບປະກັນວ່າທຸກ SiC Coating Component ຖືກສ້າງຂຶ້ນເພື່ອຕອບສະຫນອງມາດຕະຖານສູງສຸດຂອງຄວາມແມ່ນຍໍາແລະຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖື, ຊ່ວຍໃຫ້ການດໍາເນີນງານການຜະລິດຂອງທ່ານບັນລຸຜົນໄດ້ຮັບທີ່ດີທີ່ສຸດແລະປະສິດທິພາບ.