ການເຄືອບ SiC ແມ່ນຊັ້ນບາງໆໃສ່ຕົວດູດຜ່ານຂະບວນການປ່ອຍອາຍພິດທາງເຄມີ (CVD). ວັດສະດຸ silicon carbide ສະຫນອງຂໍ້ໄດ້ປຽບຈໍານວນຫນຶ່ງຂອງຊິລິໂຄນ, ລວມທັງ 10x ການທໍາລາຍຄວາມເຂັ້ມແຂງພາກສະຫນາມໄຟຟ້າ, 3x ຊ່ອງຫວ່າງແຖບ, ເຊິ່ງສະຫນອງວັດສະດຸທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງແລະການຕໍ່ຕ້ານສານເຄມີ, ການຕໍ່ຕ້ານການສວມໃສ່ທີ່ດີເລີດເຊັ່ນດຽວກັນກັບການນໍາຄວາມຮ້ອນ.
Semicorex ໃຫ້ບໍລິການທີ່ກໍາຫນົດເອງ, ຊ່ວຍໃຫ້ທ່ານປະດິດສ້າງດ້ວຍອົງປະກອບທີ່ຍາວນານ, ຫຼຸດຜ່ອນເວລາຮອບວຽນ, ແລະປັບປຸງຜົນຜະລິດ.
ການເຄືອບ SiC ມີຂໍ້ໄດ້ປຽບທີ່ເປັນເອກະລັກຫຼາຍ
ທົນທານຕໍ່ອຸນຫະພູມສູງ: CVD SiC coated susceptor ສາມາດທົນອຸນຫະພູມສູງເຖິງ 1600 ° C ໂດຍບໍ່ມີການ undergoing ການເຊື່ອມໂຊມຄວາມຮ້ອນທີ່ສໍາຄັນ.
ຄວາມຕ້ານທານທາງເຄມີ: ການເຄືອບ silicon carbide ໃຫ້ຄວາມຕ້ານທານທີ່ດີເລີດຕໍ່ກັບສານເຄມີທີ່ຫລາກຫລາຍ, ລວມທັງອາຊິດ, ດ່າງ, ແລະສານລະລາຍອິນຊີ.
ການຕໍ່ຕ້ານການສວມໃສ່: ການເຄືອບ SiC ສະຫນອງວັດສະດຸທີ່ມີຄວາມຕ້ານທານການສວມໃສ່ທີ່ດີເລີດ, ເຮັດໃຫ້ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກັບການສວມໃສ່ແລະນ້ໍາຕາສູງ.
ການນໍາຄວາມຮ້ອນ: ການເຄືອບ CVD SiC ສະຫນອງວັດສະດຸທີ່ມີຄວາມຮ້ອນສູງ, ເຮັດໃຫ້ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບການນໍາໃຊ້ໃນອຸນຫະພູມສູງທີ່ຕ້ອງການການຖ່າຍທອດຄວາມຮ້ອນທີ່ມີປະສິດທິພາບ.
ຄວາມເຂັ້ມແຂງແລະຄວາມແຂງສູງ: susceptor ເຄືອບ silicon carbide ສະຫນອງວັດສະດຸທີ່ມີຄວາມເຂັ້ມແຂງແລະຄວາມແຂງຕົວສູງ, ເຮັດໃຫ້ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກທີ່ຕ້ອງການຄວາມເຂັ້ມແຂງກົນຈັກສູງ.
ການເຄືອບ SiC ຖືກນໍາໃຊ້ໃນຄໍາຮ້ອງສະຫມັກຕ່າງໆ
ການຜະລິດ LED: CVD SiC coated susceptor ຖືກນໍາໃຊ້ໃນການຜະລິດການປຸງແຕ່ງຂອງປະເພດ LED ຕ່າງໆ, ລວມທັງ LED ສີຟ້າແລະສີຂຽວ, LED UV ແລະເລິກ UV LED, ເນື່ອງຈາກການນໍາຄວາມຮ້ອນສູງແລະທົນທານຕໍ່ສານເຄມີ.
ການສື່ສານມືຖື: CVD SiC coated susceptor ແມ່ນສ່ວນຫນຶ່ງທີ່ສໍາຄັນຂອງ HEMT ເພື່ອເຮັດສໍາເລັດຂະບວນການ GaN-on-SiC epitaxial.
Semiconductor Processing: CVD SiC coated susceptor ຖືກນໍາໃຊ້ໃນອຸດສາຫະກໍາ semiconductor ສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກຕ່າງໆ, ລວມທັງການປຸງແຕ່ງ wafer ແລະການຂະຫຍາຍຕົວ epitaxial.
SiC ເຄືອບ graphite ອົງປະກອບ
ເຮັດໂດຍ Silicon Carbide Coating (SiC) graphite, ການເຄືອບແມ່ນໃຊ້ໂດຍວິທີການ CVD ກັບຊັ້ນສະເພາະຂອງ graphite ທີ່ມີຄວາມຫນາແຫນ້ນສູງ, ສະນັ້ນມັນສາມາດເຮັດວຽກຢູ່ໃນເຕົາອົບທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງເກີນ 3000 °C ໃນບັນຍາກາດ inert, 2200 ° C ໃນສູນຍາກາດ. .
ຄຸນສົມບັດພິເສດແລະມະຫາຊົນຕ່ໍາຂອງວັດສະດຸອະນຸຍາດໃຫ້ອັດຕາຄວາມຮ້ອນໄວ, ການແຜ່ກະຈາຍອຸນຫະພູມເປັນເອກະພາບແລະຄວາມແມ່ນຍໍາທີ່ໂດດເດັ່ນໃນການຄວບຄຸມ.
ຂໍ້ມູນວັດສະດຸຂອງການເຄືອບ Semicorex SiC
ຄຸນສົມບັດທົ່ວໄປ |
ໜ່ວຍ |
ຄຸນຄ່າ |
ໂຄງສ້າງ |
|
ໄລຍະ FCC β |
ປະຖົມນິເທດ |
ເສດສ່ວນ (%) |
111 ມັກ |
ຄວາມຫນາແຫນ້ນຫຼາຍ |
g/cm³ |
3.21 |
ຄວາມແຂງ |
ຄວາມແຂງຂອງ Vickers |
2500 |
ຄວາມອາດສາມາດຄວາມຮ້ອນ |
J kg-1 K-1 |
640 |
ການຂະຫຍາຍຄວາມຮ້ອນ 100–600°C (212–1112°F) |
10-6K-1 |
4.5 |
ໂມດູລຂອງໜຸ່ມ |
Gpa (4pt ງໍ, 1300℃) |
430 |
ຂະໜາດເມັດພືດ |
ມມ |
2~10 |
ອຸນຫະພູມ sublimation |
℃ |
2700 |
ຄວາມເຂັ້ມແຂງ Felexural |
MPa (RT 4 ຈຸດ) |
415 |
ການນໍາຄວາມຮ້ອນ |
(W/mK) |
300 |
ສະຫຼຸບ CVD SiC coated susceptor ເປັນວັດສະດຸປະສົມທີ່ປະສົມປະສານຄຸນສົມບັດຂອງ susceptor ແລະ silicon carbide. ວັດສະດຸນີ້ມີຄຸນສົມບັດທີ່ເປັນເອກະລັກ, ລວມທັງອຸນຫະພູມສູງແລະການຕໍ່ຕ້ານສານເຄມີ, ການຕໍ່ຕ້ານການສວມໃສ່ທີ່ດີເລີດ, ການນໍາຄວາມຮ້ອນສູງ, ແລະຄວາມເຂັ້ມແຂງສູງແລະຄວາມແຂງ. ຄຸນສົມບັດເຫຼົ່ານີ້ເຮັດໃຫ້ມັນເປັນອຸປະກອນທີ່ດຶງດູດສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງຕ່າງໆ, ລວມທັງການປຸງແຕ່ງ semiconductor, ການປຸງແຕ່ງສານເຄມີ, ການປິ່ນປົວຄວາມຮ້ອນ, ການຜະລິດຈຸລັງແສງຕາເວັນ, ແລະການຜະລິດ LED.
ເພີ່ມປະສິດທິພາບແລະຄວາມແມ່ນຍໍາຂອງຂະບວນການ epitaxial semiconductor ຂອງທ່ານດ້ວຍວົງແຫວນ Epi Pre Heat Ring ຂອງ Semicorex. ຫັດຖະກໍາດ້ວຍຄວາມແມ່ນຍໍາຈາກ graphite ເຄືອບ SiC, ວົງແຫວນທີ່ກ້າວຫນ້ານີ້ມີບົດບາດສໍາຄັນໃນການເພີ່ມປະສິດທິພາບການເຕີບໂຕຂອງ epitaxial ຂອງທ່ານໂດຍທາດອາຍແກັສຂະບວນການຄວາມຮ້ອນກ່ອນພວກມັນເຂົ້າໄປໃນຫ້ອງ.
ອ່ານຕື່ມສົ່ງສອບຖາມSemicorex SiC Parts Abdeck Segmenten, ອົງປະກອບທີ່ສໍາຄັນໃນການຜະລິດອຸປະກອນ semiconductor ທີ່ກໍານົດຄວາມແມ່ນຍໍາແລະຄວາມທົນທານຄືນໃຫມ່. ຫັດຖະກໍາຈາກ graphite ເຄືອບ SiC, ພາກສ່ວນຂະຫນາດນ້ອຍແຕ່ສໍາຄັນເຫຼົ່ານີ້ມີບົດບາດສໍາຄັນໃນການກ້າວຫນ້າການປຸງແຕ່ງ semiconductor ໃນລະດັບໃຫມ່ຂອງປະສິດທິພາບແລະຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖື.
ອ່ານຕື່ມສົ່ງສອບຖາມSemicorex Planetary Disk, silicon carbide coated graphite wafer susceptor ຫຼື carrier ທີ່ອອກແບບມາສໍາລັບຂະບວນການ Molecular Beam Epitaxy (MBE) ພາຍໃນເຕົາເຜົາ Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD). Semicorex ມຸ່ງຫມັ້ນທີ່ຈະສະຫນອງຜະລິດຕະພັນທີ່ມີຄຸນນະພາບໃນລາຄາທີ່ແຂ່ງຂັນ, ພວກເຮົາຫວັງວ່າຈະກາຍເປັນຄູ່ຮ່ວມງານໄລຍະຍາວຂອງທ່ານໃນປະເທດຈີນ.
ອ່ານຕື່ມສົ່ງສອບຖາມເປີດເຜີຍຈຸດສູງສຸດຂອງຄວາມແມ່ນຍໍາໃນການຜະລິດ semiconductor ກັບ CVD SiC Pancake Susceptor ທີ່ທັນສະໄຫມຂອງພວກເຮົາ. ອົງປະກອບທີ່ມີຮູບຮ່າງຂອງແຜ່ນນີ້, ອອກແບບຢ່າງຊ່ຽວຊານສໍາລັບອຸປະກອນ semiconductor, ເຮັດຫນ້າທີ່ເປັນອົງປະກອບທີ່ສໍາຄັນສໍາລັບການສະຫນັບສະຫນູນ wafers semiconductor ບາງໆໃນລະຫວ່າງຂະບວນການເງິນຝາກ epitaxial ອຸນຫະພູມສູງ. Semicorex ມຸ່ງຫມັ້ນທີ່ຈະສະຫນອງຜະລິດຕະພັນທີ່ມີຄຸນນະພາບໃນລາຄາທີ່ແຂ່ງຂັນ, ພວກເຮົາຫວັງວ່າຈະກາຍເປັນຄູ່ຮ່ວມງານໄລຍະຍາວຂອງທ່ານໃນປະເທດຈີນ.
ອ່ານຕື່ມສົ່ງສອບຖາມເສີມຂະຫຍາຍຄວາມສາມາດ ແລະປະສິດທິພາບຂອງອຸປະກອນ semiconductor ຂອງທ່ານດ້ວຍອົງປະກອບ Semiconductor SiC ຂອງພວກເຮົາສໍາລັບ Epitaxial. ອົງປະກອບເຄິ່ງກະບອກເຫຼົ່ານີ້ແມ່ນຖືກອອກແບບໂດຍສະເພາະສໍາລັບພາກສ່ວນການໄດ້ຮັບຂອງເຕົາປະຕິກອນ epitaxial, ມີບົດບາດສໍາຄັນໃນການເພີ່ມປະສິດທິພາບຂະບວນການຜະລິດ semiconductor. Semicorex ມຸ່ງຫມັ້ນທີ່ຈະສະຫນອງຜະລິດຕະພັນທີ່ມີຄຸນນະພາບໃນລາຄາທີ່ແຂ່ງຂັນ, ພວກເຮົາຫວັງວ່າຈະກາຍເປັນຄູ່ຮ່ວມງານໄລຍະຍາວຂອງທ່ານໃນປະເທດຈີນ.
ອ່ານຕື່ມສົ່ງສອບຖາມເສີມຂະຫຍາຍການທໍາງານແລະປະສິດທິພາບຂອງອຸປະກອນ semiconductor ຂອງທ່ານດ້ວຍການຕັດແຂບຂອງພວກເຮົາ Half Parts Drum Products Epitaxial Part. ອອກແບບສະເພາະສໍາລັບອົງປະກອບການຮັບປະທານຂອງເຕົາປະຕິກອນ LPE, ອຸປະກອນເສີມເຄິ່ງກະບອກນີ້ມີບົດບາດສໍາຄັນໃນການເພີ່ມປະສິດທິພາບຂະບວນການເຊມິຄອນດັກເຕີຂອງທ່ານ.
Semicorex ມຸ່ງຫມັ້ນທີ່ຈະສະຫນອງຜະລິດຕະພັນທີ່ມີຄຸນນະພາບໃນລາຄາທີ່ແຂ່ງຂັນ, ພວກເຮົາຫວັງວ່າຈະກາຍເປັນຄູ່ຮ່ວມງານໄລຍະຍາວຂອງທ່ານໃນປະເທດຈີນ.