ເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ Silicon Wafer

ເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ Semicorex Silicon Wafer ແມ່ນຊິລິໂຄນຄາໄບທີ່ເຄືອບໂດຍໃຊ້ MOCVD, ເຊິ່ງສາມາດເຮັດວຽກໃນເຕົາອົບທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງເກີນ 3000 °C ໃນບັນຍາກາດ inert, 2200 ° C ໃນສູນຍາກາດ. SiC Coating ແມ່ນສານເຄືອບ silicon carbide (SiC) ທີ່ມີຄວາມຫນາແຫນ້ນ, ທົນທານຕໍ່ການສວມໃສ່.
ເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ Silicon Wafer ຂອງພວກເຮົາມີຄຸນສົມບັດຕ້ານການກັດກ່ອນແລະຄວາມຮ້ອນສູງເຊັ່ນດຽວກັນກັບການນໍາຄວາມຮ້ອນທີ່ດີເລີດ. ພວກເຮົາໃຊ້ SiC ໃນຊັ້ນບາງໆໃສ່ກຼາຟິດໂດຍໃຊ້ຂະບວນການປ່ອຍອາຍພິດທາງເຄມີ (CVD).
ທີ່ Semicorex, ພວກເຮົາສຸມໃສ່ການສະຫນອງຜະລິດຕະພັນທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງ, ປະຫຍັດຄ່າໃຊ້ຈ່າຍໃຫ້ແກ່ລູກຄ້າຂອງພວກເຮົາ. ເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ Silicon Wafer ຂອງພວກເຮົາມີປະໂຫຍດດ້ານລາຄາແລະຖືກສົ່ງອອກໄປຕະຫຼາດເອີຣົບແລະອາເມລິກາຫຼາຍ. ພວກເຮົາມີຈຸດປະສົງເພື່ອເປັນຄູ່ຮ່ວມງານໄລຍະຍາວຂອງທ່ານ, ສະຫນອງຜະລິດຕະພັນທີ່ມີຄຸນນະພາບສອດຄ່ອງແລະການບໍລິການລູກຄ້າພິເສດ.

ຄຸນສົມບັດຂອງເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ Silicon Wafer

- ການເຄືອບ Silicon Carbide ໃຊ້ວິທີການ CVD ເພື່ອປັບປຸງຊີວິດການບໍລິການ.
- insulation ຄວາມຮ້ອນທີ່ເຮັດຈາກກາກບອນ rigid purified ປະສິດທິພາບສູງ.
- ທັງຊັ້ນຍ່ອຍ graphite ແລະຊັ້ນ silicon carbide ມີ conductivity ຄວາມຮ້ອນສູງ, ແລະຄຸນສົມບັດການກະຈາຍຄວາມຮ້ອນທີ່ດີເລີດ.
- ຄວາມບໍລິສຸດສູງ graphite ແລະ SiC ເຄືອບສໍາລັບການຕໍ່ຕ້ານ pinhole ແລະຊີວິດທີ່ສູງຂຶ້ນ

ພວກເຮົາສາມາດສະຫນອງການຕ້ານການຜຸພັງແລະຊີວິດຍາວ span graphite crucible, mold graphite ແລະທຸກພາກສ່ວນຂອງ graphite heater.