ຜະລິດຕະພັນ

Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor ສໍາລັບ Wafer Epitaxial ແມ່ນທາງເລືອກທີ່ສົມບູນແບບສໍາລັບການນໍາໃຊ້ການເຕີບໃຫຍ່ຂອງຜລຶກດຽວ, ຍ້ອນຫນ້າດິນຮາບພຽງພິເສດແລະການເຄືອບ SiC ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງ. ຈຸດ melting ສູງ, ການຕໍ່ຕ້ານການຜຸພັງ, ແລະການຕໍ່ຕ້ານ corrosion ເຮັດໃຫ້ມັນເປັນທາງເລືອກທີ່ເຫມາະສົມສໍາລັບການນໍາໃຊ້ໃນອຸນຫະພູມສູງແລະ corrosive ສະພາບແວດລ້ອມ.

Semicorex SiC Coated Epitaxial Reactor Barrel ເປັນຜະລິດຕະພັນ graphite ຄຸນນະພາບສູງສຸດທີ່ເຄືອບດ້ວຍ SiC ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ. ຄວາມຫນາແຫນ້ນທີ່ດີເລີດແລະການນໍາຄວາມຮ້ອນເຮັດໃຫ້ມັນເປັນທາງເລືອກທີ່ເຫມາະສົມສໍາລັບການນໍາໃຊ້ໃນຂະບວນການ LPE, ສະຫນອງການແຜ່ກະຈາຍຄວາມຮ້ອນພິເສດແລະການປົກປ້ອງໃນສະພາບແວດລ້ອມ corrosive ແລະອຸນຫະພູມສູງ.

The Semicorex Carbide-Coated Reactor Barrel Susceptor ແມ່ນຜະລິດຕະພັນກຼາຟີ້ຄຸນນະພາບພຣີມຽມທີ່ເຄືອບດ້ວຍ SiC ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ອອກແບບສະເພາະສໍາລັບຂະບວນການ LPE. ດ້ວຍຄວາມຮ້ອນທີ່ດີເລີດແລະການຕໍ່ຕ້ານ corrosion, ຜະລິດຕະພັນນີ້ແມ່ນດີເລີດສໍາລັບການນໍາໃຊ້ໃນການຜະລິດ semiconductor.

Semicorex's SiC-Coated Susceptor Barrel for Epitaxial Reactor Chamber ແມ່ນການແກ້ໄຂທີ່ເຊື່ອຖືໄດ້ສູງສໍາລັບຂະບວນການຜະລິດ semiconductor, ມີລັກສະນະການແຜ່ກະຈາຍຄວາມຮ້ອນທີ່ດີກວ່າແລະຄຸນສົມບັດການນໍາຄວາມຮ້ອນ. ມັນຍັງທົນທານຕໍ່ການກັດກ່ອນ, ການຜຸພັງ, ແລະອຸນຫະພູມສູງ.

Semicorex Silicon Carbide Coated Barrel Susceptor ເປັນຜະລິດຕະພັນ graphite ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງທີ່ເຄືອບດ້ວຍ SiC ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ສະຫນອງຄວາມຮ້ອນພິເສດແລະການຕໍ່ຕ້ານ corrosion. ມັນໄດ້ຖືກອອກແບບໂດຍສະເພາະສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ LPE ໃນອຸດສາຫະກໍາການຜະລິດ semiconductor.

Semicorex SiC coating EPI 3 1/4 "Barrel Susceptor ສະຫນອງຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຄວາມຮ້ອນທີ່ດີເລີດແລະການຕໍ່ຕ້ານການໂຈມຕີສານເຄມີ, ໃນຂະນະທີ່ substrate graphite ສະຫນອງຄຸນສົມບັດການຖ່າຍທອດຄວາມຮ້ອນທີ່ດີກວ່າ.